公开(公告)号：CN101006572A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200580027762.X

申请日：2005-11-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中庆一

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/68707 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70741

Abstract: 本发明涉及一种标度线等的基板搬送用的基板搬运装置，基板搬运方法以及曝光装置。所述基板搬运装置包括：一可动台，其可在水平方向中移动且具有卡盘，此卡盘在向下方向中具有一种可吸附基板的吸附面；一升降装置，其具备一种升降桌，此升降桌可定位在该可动台的移动范围内且较该可动台更下方的位置中；以及一搬送装置，其具备一种搬送臂，以使基板被搬送至该升降装置中。本发明基板搬运装置和方法可使基板确实吸附在标度线的下面，且因此可得到可靠性高的曝光装置。

公开(公告)号：CN101002306A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580027407.2

申请日：2005-12-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 平柳德行 ,  田中庆一

IPC: H01L21/027 ,  G03B21/00 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70358 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

Abstract: 一种曝光装置中掩模M表面的高度方向位置测定方法，此曝光装置具有一种转印功能，以借由投影光学系统使掩模M上已形成的图案转印至晶圆等的感应基板上，其特征为：在测定该掩模M的高度方向位置所进行的测定之前使配置在掩模M和投影光学系统之间曝光时规定该曝光区域所用的曝光区域规定构件1移动。本发明在即使存在着曝光区域规定构件时，由于可使曝光区域规定构件退避，仍可对掩模表面的所定部份的高度方向位置进行测定。

公开(公告)号：CN104377151B

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201410575558.2

申请日：2010-09-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中庆一 ,  泉重人

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供加压装置及控制方法。在通过加压来接合基板的情况下，基板面内的压力均匀性成为问题。提供一种加压模块，该加压模块具备：工作台，该工作台具有载置被加压体的载置面；压力可变部，该压力可变部使上述载置面的面内的压力分布可变；多个压力检测部，该多个压力检测部对上述压力可变部的压力进行检测。上述压力可变部也可以具备控制部，该控制部基于由上述多个压力检测部检测出的压力，对上述载置面的面内的压力分布进行变更。

公开(公告)号：CN102630334A

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：CN201080053252.0

申请日：2010-09-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中庆一 ,  泉重人

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B32B41/00 ,  B32B37/10 ,  H01L21/67005 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68785 ,  Y10T428/24595

Abstract: 本发明提供加压模块、加压装置以及基板贴合装置。在通过加压来接合基板的情况下，基板面内的压力均匀性成为问题。提供一种加压模块，该加压模块具备：工作台，该工作台具有载置被加压体的载置面；压力可变部，该压力可变部使上述载置面的面内的压力分布可变；多个压力检测部，该多个压力检测部对上述压力可变部的压力进行检测。上述压力可变部也可以具备控制部，该控制部基于由上述多个压力检测部检测出的压力，对上述载置面的面内的压力分布进行变更。

公开(公告)号：CN101410949A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780011066.9

申请日：2007-02-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中庆一

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70858 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  H01L21/67109

Abstract: 送电/废热框架(24A，24B)能够总是吸收由晶片台(WST1，WST2)所辐射的热，故可抑制晶片台(WST1，WST2)中产生的热对曝光精度的影响。在此情况下，无须如以前那样将供给制冷剂的配管(软管)自外部连接至晶片台(WST1，WST2)，故可防止因配管张力所导致的晶片台(WST1，WST2)移动精度的下降，由此而言也能够将曝光精度维持在高精度。

公开(公告)号：CN102576689B

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201080041623.3

申请日：2010-07-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕 ,  田中庆一 ,  保多智之

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67092

Abstract: 提供一种能在用一对基板支架层叠半导体基板时，抑制尘埃流入载置半导体基板的区域的基板处理系统。该基板处理系统具有使保持第1基板的第1基板支架和保持第2基板的第2基板支架相向来夹持第1基板和第2基板的基板支架系统、和保持基板支架系统的处理装置，在基板支架系统及处理装置的至少一方具有抑制尘埃向夹持第1基板和第2基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。基板支架系统可以在任一基板支架上设置抑制尘埃向保持基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。

公开(公告)号：CN104377151A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201410575558.2

申请日：2010-09-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中庆一 ,  泉重人

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC classification number: B32B41/00 ,  B32B37/10 ,  H01L21/67005 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68785 ,  Y10T428/24595 ,  H01L21/68771 ,  H01L2221/683

Abstract: 本发明提供加压装置及控制方法。在通过加压来接合基板的情况下，基板面内的压力均匀性成为问题。提供一种加压模块，该加压模块具备：工作台，该工作台具有载置被加压体的载置面；压力可变部，该压力可变部使上述载置面的面内的压力分布可变；多个压力检测部，该多个压力检测部对上述压力可变部的压力进行检测。上述压力可变部也可以具备控制部，该控制部基于由上述多个压力检测部检测出的压力，对上述载置面的面内的压力分布进行变更。

公开(公告)号：CN102576689A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080041623.3

申请日：2010-07-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 菅谷功 ,  长南纯一 ,  前田荣裕 ,  田中庆一 ,  保多智之

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67092

Abstract: 提供一种能在用一对基板支架层叠半导体基板时，抑制尘埃流入载置半导体基板的区域的基板处理系统。该基板处理系统具有使保持第1基板的第1基板支架和保持第2基板的第2基板支架相向来夹持第1基板和第2基板的基板支架系统、和保持基板支架系统的处理装置，在基板支架系统及处理装置的至少一方具有抑制尘埃向夹持第1基板和第2基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。基板支架系统可以在任一基板支架上设置抑制尘埃向保持基板的区域流入的尘埃流入抑制机构。