公开(公告)号：CN101385124B

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200780005788.3

申请日：2007-05-23

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 柴崎祐一 ,  水谷刚之 ,  一之濑刚 ,  涉田慎

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341

Abstract: 维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。

公开(公告)号：CN102156389A

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN201010602289.6

申请日：2007-05-23

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 柴崎祐一 ,  水谷刚之 ,  一之濑刚 ,  涉田慎

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。

公开(公告)号：CN101385124A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200780005788.3

申请日：2007-05-23

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 柴崎祐一 ,  水谷刚之 ,  一之濑刚 ,  涉田慎

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341

Abstract: 维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。