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公开(公告)号：CN102156389A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010602289.6
申请日：2007-05-23
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341
Abstract: 本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101385124A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005788.3
申请日：2007-05-23
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341
Abstract: 维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101044594A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200580035989.9
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/38 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/38 , G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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公开(公告)号：CN101866113B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201010140711.0
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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公开(公告)号：CN101044594B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200580035989.9
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/38 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/38 , G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100565799C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200680017294.2
申请日：2006-07-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F7/70925 , G03F7/70975
Abstract: 曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。
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公开(公告)号：CN101385124B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200780005788.3
申请日：2007-05-23
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341
Abstract: 维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101180707A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200680017294.2
申请日：2006-07-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F7/70925 , G03F7/70975
Abstract: 曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。
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公开(公告)号：CN101019209A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580031061.3
申请日：2005-09-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 水谷刚之
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件(70)，具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，根据衬底(P)的位置或姿势调整喷嘴构件(70)的位置以及倾斜中的至少任意一者。曝光装置在衬底(P)上形成液体(LQ)的浸液区域，隔着浸液区域的液体(LQ)对衬底(P)进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。
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公开(公告)号：CN101258581B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200680032751.5
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
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