公开(公告)号：CN119585316A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202380054546.2

申请日：2023-07-21

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 三轮勇人 ,  西村仁希

IPC: C08F2/44 ,  C09C3/08 ,  C09D17/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种组合物，其包含二氧化硅粒子和单体，且所述组合物降低了粘度。本发明是一种组合物，其包含二氧化硅粒子(a)、含烯属不饱和基团的单体(b)以及氨(c)，组合物100质量％中的氨(c)的量为0.05～4.5质量％。

公开(公告)号：CN119585317A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202380054547.7

申请日：2023-07-21

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 三轮勇人 ,  西村仁希

IPC: C08F2/44 ,  C01B33/145 ,  C01B33/18 ,  C09C3/08

Abstract: 本发明的目的在于提供一种组合物，其包含二氧化硅粒子和单体，且所述组合物降低了粘度。本发明为一种组合物，其包含二氧化硅粒子(a)、以及含烯属不饱和基团的单体(b)，还包含选自由膦、胺、含氮杂环化合物以及氢氧化铵盐构成的组中的至少一种添加剂(c)，所述组合物不含溶剂或在组合物100质量％中包含10质量％以下的溶剂。

公开(公告)号：CN110461768B

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN201880021559.9

申请日：2018-04-05

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 西村仁希 ,  小野勇二 ,  芝崎将一

IPC: C01B33/18 ,  C08F292/00 ,  C08K3/36 ,  C08K9/04 ,  C08L101/00 ,  C09C1/30 ,  C09C3/08

Abstract: 本发明的课题在于提供可提供均匀性良好的二氧化硅粒子分散体的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子，其为根据BET法由比表面积算出的平均一次粒径dBET为1nm以上100nm以下，并且，根据动态光散射法测定的平均二次粒径dDLS与所述dBET之比(dDLS/dBET)为1.2以下的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子用放大倍率20万倍的透射型电子显微镜测定的粒径的变异系数优选为20％以下。

公开(公告)号：CN110461768A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021559.9

申请日：2018-04-05

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 西村仁希 ,  小野勇二 ,  芝崎将一

IPC: C01B33/18 ,  C08F292/00 ,  C08K3/36 ,  C08K9/04 ,  C08L101/00 ,  C09C1/30 ,  C09C3/08

Abstract: 本发明的课题在于提供可提供均匀性良好的二氧化硅粒子分散体的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子，其为根据BET法由比表面积算出的平均一次粒径dBET为1nm以上100nm以下，并且，根据动态光散射法测定的平均二次粒径dDLS与所述dBET之比(dDLS/dBET)为1.2以下的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子用放大倍率20万倍的透射型电子显微镜测定的粒径的变异系数优选为20％以下。