公开(公告)号：CN105092456B

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：CN201510246813.3

申请日：2015-05-15

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 南谷林太郎 ,  串田则行 ,  出野彻哉

IPC: G01N17/00

CPC classification number: G01N17/04 ,  G01N27/20

Abstract: 本发明涉及一种用于监控腐蚀环境的装置以及方法。提供一种用于监控腐蚀环境的装置，包括：至少一个通路构造，具有开口部，并且被配置为控制空气中的腐蚀性物质的侵入；以及传感器部，具有设置于通路构造内的金属薄膜。通路构造内的金属薄膜由于从开口部侵入到通路构造的腐蚀性物质而腐蚀。在监控期间，金属薄膜的电阻值根据金属薄膜的腐蚀区域的扩展而变化。从而，用于监控腐蚀环境的装置测定金属薄膜的电阻值，抑制测定出的值的变动。这使得能够长期且高精度地评价电气电子装置的设置环境的腐蚀程度。

公开(公告)号：CN105092456A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510246813.3

申请日：2015-05-15

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 南谷林太郎 ,  串田则行 ,  出野彻哉

IPC: G01N17/00

CPC classification number: G01N17/04 ,  G01N27/20

Abstract: 本发明涉及一种用于监控腐蚀环境的装置以及方法。提供一种用于监控腐蚀环境的装置，包括：至少一个通路构造，具有开口部，并且被配置为控制空气中的腐蚀性物质的侵入；以及传感器部，具有设置于通路构造内的金属薄膜。通路构造内的金属薄膜由于从开口部侵入到通路构造的腐蚀性物质而腐蚀。在监控期间，金属薄膜的电阻值根据金属薄膜的腐蚀区域的扩展而变化。从而，用于监控腐蚀环境的装置测定金属薄膜的电阻值，抑制测定出的值的变动。这使得能够长期且高精度地评价电气电子装置的设置环境的腐蚀程度。