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公开(公告)号:CN1157276A
公开(公告)日:1997-08-20
申请号:CN96117954.6
申请日:1996-12-25
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C04B35/00
CPC classification number: C04B35/573 , C04B35/111 , C04B35/591 , C04B35/65
Abstract: 本发明的目的是提供强度和断裂韧性都优异的致密碳化硅、氮化硅或氧化铝陶瓷以及提供制备这种陶瓷的工艺。发生化学反应的界面横截毛坯内部,使化学反应在局部区域内进行以制备相对密度至少为95%的致密陶瓷,该陶瓷中形成基体的金属元素的残余含量小于1vol%。