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发明公开
钨靶及其制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN119421969A

公开(公告)日：2025-02-11

申请号：CN202380049685.6

申请日：2023-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 中村亮太 , 大久保拓 , 芝崎和马 , 坂本大河 , 手塚尚人

IPC: C23C14/34 , B22F3/14 , C22C1/04 , B22F3/15 , B22F1/052

Abstract: 本发明提供一种钨靶及其制造方法，抑制作为颗粒的产生原因的孔隙的生成，并高精度地控制其尺寸和分布。一种钨靶，由钨粉末的烧结体形成，其中，相对密度为99％以上，在0.15mm2的观察区域中，大小为0.01μm2以上且小于0.2μm2的孔隙为20个以下，大小为0.2μm2以上且小于1.8μm2的孔隙为5个以下，大小为1.8μm2以上的孔隙为1个以下。

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