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公开(公告)号：CN101631889B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200880007921.3
申请日：2008-04-01
Applicant: 株式会社爱发科 , 小岛压力加工工业株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D7/02 , C08G18/3228 , C08G18/3234 , C08G18/324 , C08G18/3246 , C08G18/757 , C08G18/7628 , C09D175/02
Abstract: 本发明的目的在于，通过真空蒸镀聚合法在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的，其中，所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。
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公开(公告)号：CN101631889A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200880007921.3
申请日：2008-04-01
Applicant: 株式会社爱发科 , 小岛压力加工工业株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D7/02 , C08G18/3228 , C08G18/3234 , C08G18/324 , C08G18/3246 , C08G18/757 , C08G18/7628 , C09D175/02
Abstract: 本发明的目的在于，通过真空蒸镀聚合法在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的，其中，所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。
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公开(公告)号：CN104067692A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201280067681.2
申请日：2012-10-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L51/5246 , H01L51/5253
Abstract: 本发明提供一种保护元件免受氧气、水分等的侵害，能够抑制元件劣化等的元件结构体以及元件结构体的制造方法。元件结构体(1)具有基板(2)、器件层(3)、第1保护层(4)、第2保护层(5)以及密封层(6)。器件层(3)形成于基板2上的第1区域(11)。第1保护层(4)由无机物构成，具有形成于器件层(3)周围的第1边缘部(4A)，覆盖器件层(3)，形成于基板(2)上包含第1区域(11)的第2区域(12)。第2保护层(5)由有机物构成，形成于第1保护层(4)上与第2区域(12)相对应的第3区域(13)。密封层(6)由无机物构成，具有形成于第1边缘部(4A)与第2保护层(5)周围的第2边缘部(6A)，覆盖第2保护层(5)，形成于基板(2)上包含第2区域(12)的第4区域(14)。
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公开(公告)号：CN103154303B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201180050603.7
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H05B33/10 , G03F1/50 , G03F7/2014
Abstract: 本发明提供一种使有机材料附着之后，使成膜对象物静止，固化有机材料，能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽（11）内配置的基板台（14）上配置成膜对象物（5），在成膜对象物（5）的表面接触配置掩模（31），冷却成膜对象物（5），将真空槽（11）内进行真空排气的同时，从掩模（31）上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料，并使其附着于在掩模（31）的开口（34）底面露出的成膜对象物（5）的表面，在附着的部分形成光反应性材料的液状膜，在停止了真空槽（11）内的真空排气的状态下，在放射光的光照射装置（24）中，使光放射的同时，在掩模上移动，使液状膜固化，形成光反应性材料的有机膜。
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公开(公告)号：CN103249858B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180058990.9
申请日：2011-12-02
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B05C11/00 , C23C14/12 , C23C14/564
Abstract: 提供能容易地除去着膜于防着板的表面的有机薄膜的有机薄膜形成装置。有机薄膜形成装置，其具有真空槽、配置于真空槽内的基板台、从在真空槽内露出的供给孔向真空槽内供给有机物气体的气体供给部、和安装于真空槽的内壁面的防着板，在配置于基板台的表面的基板上由有机物气体形成有机薄膜，在防着板的露出的表面上，形成有相对于膜整体的体积，以20%～40%的体积比含有聚四氟乙烯的含有氟树脂的非电解镍膜。含有氟树脂的非电解镍膜对有机薄膜具有脱模性，即使附着有机薄膜，也可以通过高压洗涤等方法容易地除去有机薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101809427A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880108998.X
申请日：2008-09-26
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的目的是提供能用高灵敏度且短时期测定透过测定对象物的水蒸气量的测定装置及方法。在由测定对象物分隔的第1和第2空间中，将第1空间保持在大气压下并保持预定的温度和湿度，将第2空间保持在大气压下并成为露点温度为-70℃以下的干燥状态，将水蒸气导入了第1空间内后，测定第2空间内的露点温度，根据上述测定的露点温度，测定上述测定对象物的水蒸气透过度。
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公开(公告)号：CN101801664B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200880107592.X
申请日：2008-10-17
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B05D5/067 , B05D1/60 , B05D7/02 , Y10T428/31605 , Y10T428/31609 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种对树脂制基材的密合性优异、可以赋予层合在其上的金属装饰膜充分的光泽的金属装饰膜向树脂制基材的层合方法及具有金属装饰膜的树脂制基材，其特征在于，在树脂制基材上层合通过蒸镀聚合法产生的高分子的平坦化膜后，层合金属装饰膜。
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公开(公告)号：CN101809427B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200880108998.X
申请日：2008-09-26
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的目的是提供能用高灵敏度且短时期测定透过测定对象物的水蒸气量的测定装置及方法。在由测定对象物分隔的第1和第2空间中，将第1空间保持在大气压下并保持预定的温度和湿度，将第2空间保持在大气压下并成为露点温度为-70℃以下的干燥状态，将水蒸气导入了第1空间内后，测定第2空间内的露点温度，根据上述测定的露点温度，测定上述测定对象物的水蒸气透过度。
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公开(公告)号：CN103249858A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180058990.9
申请日：2011-12-02
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B05C11/00 , C23C14/12 , C23C14/564
Abstract: 提供能容易地除去着膜于防着板的表面的有机薄膜的有机薄膜形成装置。有机薄膜形成装置，其具有真空槽、配置于真空槽内的基板台、从在真空槽内露出的供给孔向真空槽内供给有机物气体的气体供给部、和安装于真空槽的内壁面的防着板，在配置于基板台的表面的基板上由有机物气体形成有机薄膜，在防着板的露出的表面上，形成有相对于膜整体的体积，以20%～40%的体积比含有聚四氟乙烯的含有氟树脂的非电解镍膜。含有氟树脂的非电解镍膜对有机薄膜具有脱模性，即使附着有机薄膜，也可以通过高压洗涤等方法容易地除去有机薄膜。
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公开(公告)号：CN103154303A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180050603.7
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H05B33/10 , G03F1/50 , G03F7/2014
Abstract: 本发明提供一种使有机材料附着之后，使成膜对象物静止，固化有机材料，能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽（11）内配置的基板台（14）上配置成膜对象物（5），在成膜对象物（5）的表面接触配置掩模（31），冷却成膜对象物（5），将真空槽（11）内进行真空排气的同时，从掩模（31）上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料，并使其附着于在掩模（31）的开口（34）底面露出的成膜对象物（5）的表面，在附着的部分形成光反应性材料的液状膜，在停止了真空槽（11）内的真空排气的状态下，在放射光的光照射装置（24）中，使光放射的同时，在掩模上移动，使液状膜固化，形成光反应性材料的有机膜。
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