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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109314771A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780038127.4
申请日：2017-06-14
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 控制设备(10)包括获取器(32)，定时检测器(33)，控制器(30)和驱动器(31)。获取器(32)被配置为从光检测器(16)获取输出电压，用于接收由光源(12)和偏转器(13)扫描的激光光线。定时检测器(33)被配置为基于输出电压在扫描方向上检测前向和后向路径上的激光光线的参考定时。控制器(30)被配置为生成控制信号，用于使光源(12)和偏转器(13)从通过将一时间加至前向路径上的参考定时而获得的时间在扫描的表面上绘制前向路径图像，并且从通过将一时间加至后向路径上的参考定时而获得的时间在所述表面上绘制后向路径图像。驱动器(31)被配置为基于控制信号，通过驱动偏转器(13)来绘制图像。
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公开(公告)号：CN107203037B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201710136971.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 株式会社理光
IPC: G02B26/10
Abstract: 本发明涉及控制装置、光偏转系统、图像投影装置以及控制方法，其目的在于改善反射面摆动速度的均一性。控制装置(11)对压电部(202)施加驱动电压，使该压电部(202)发生变形，控制与该压电部(202)连接的反射面(14)的摆动，其中具备用于对压电部(202)施加驱动电压的驱动信号输出部(31)、以及用于控制驱动电压的控制部(30)，设定控制部(30)控制的驱动电压的最小值与0相差一规定差值。
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公开(公告)号：CN102483529B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080037680.4
申请日：2010-08-25
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02F1/035 , G02F1/225 , G02F1/295 , G02F2202/42
Abstract: 一种电光元件，包括：由电光材料制成的核心层；包覆结构，布置在核心层的相对侧的每一个上并且配置为与核心层一起形成光波导；以及一对电极层，一个电极层布置在包覆结构的一侧上，并且另一个电极层布置在包覆结构的另一侧上。包覆结构包括第一包覆层和第二层。第二包覆层的介电常数大于第一包覆层的介电常数，并且第二包覆层的厚度大于第一包覆层的厚度。
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公开(公告)号：CN107203037A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710136971.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 株式会社理光
IPC: G02B26/10
Abstract: 本发明涉及控制装置、光偏转系统、图像投影装置以及控制方法，其目的在于改善反射面摆动速度的均一性。控制装置(11)对压电部(202)施加驱动电压，使该压电部(202)发生变形，控制与该压电部(202)连接的反射面(14)的摆动，其中具备用于对压电部(202)施加驱动电压的驱动信号输出部(31)、以及用于控制驱动电压的控制部(30)，设定控制部(30)控制的驱动电压的最小值与0相差一规定差值。
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公开(公告)号：CN102483529A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037680.4
申请日：2010-08-25
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02F1/035 , G02F1/225 , G02F1/295 , G02F2202/42
Abstract: 一种电光元件，包括：由电光材料制成的核心层；包覆结构，布置在核心层的相对侧的每一个上并且配置为与核心层一起形成光波导；以及一对电极层，一个电极层布置在包覆结构的一侧上，并且另一个电极层布置在包覆结构的另一侧上。包覆结构包括第一包覆层和第二层。第二包覆层的介电常数大于第一包覆层的介电常数，并且第二包覆层的厚度大于第一包覆层的厚度。
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