公开(公告)号：CN102407665B

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201110214831.5

申请日：2011-07-29

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 木平孝和 ,  秋山善一 ,  町田治 ,  八木雅广 ,  田代亮

IPC: B41J2/045

Abstract: 本发明公开了一种薄膜形成设备、薄膜形成方法、压电元件形成方法、液滴排放头和喷墨记录设备，所述薄膜形成设备用于利用喷墨方法在衬底上形成薄膜，该薄膜形成设备包括：墨水施加单元，该墨水施加单元将用于薄膜形成的墨滴施加到衬底表面上的预定区域；至少一个激光源，用于加热墨滴由此形成薄膜；以及激光照射单元，该激光照射单元用来自激光源的激光照射位于衬底预定区域的后侧上的第一点，其中在所述预定区域上已经施加了墨滴。

公开(公告)号：CN102343326B

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201110217303.5

申请日：2011-08-01

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 八木雅广 ,  太田英一 ,  秋山善一 ,  田代亮 ,  町田治

IPC: B05D1/18 ,  B05C11/10

CPC classification number: H01L41/317 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  G01N21/8422 ,  G01N2021/8427

Abstract: 本发明的实施例提供一种薄膜制造方法和薄膜元件。该薄膜制造方法包括：将衬底放置到原材料溶液中，通过该原材料溶液在该衬底的第一主平面上形成薄膜；通过将光从光源施加到第一主平面侧，在该衬底的第一主平面上形成薄膜；通过应用来自该光源的光，测量从该衬底的第一主平面到该原材料溶液的液面的距离；以及基于测量时获得的测量结果，调整高度方向上该衬底的位置。

公开(公告)号：CN102407665A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201110214831.5

申请日：2011-07-29

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 木平孝和 ,  秋山善一 ,  町田治 ,  八木雅广 ,  田代亮

IPC: B41J2/045

Abstract: 本发明公开了一种薄膜形成设备、薄膜形成方法、压电元件形成方法、液滴排放头和喷墨记录设备，所述薄膜形成设备用于利用喷墨方法在衬底上形成薄膜，该薄膜形成设备包括：墨水施加单元，该墨水施加单元将用于薄膜形成的墨滴施加到衬底表面上的预定区域；至少一个激光源，用于加热墨滴由此形成薄膜；以及激光照射单元，该激光照射单元用来自激光源的激光照射位于衬底预定区域的后侧上的第一点，其中在所述预定区域上已经施加了墨滴。

公开(公告)号：CN102343326A

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN201110217303.5

申请日：2011-08-01

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 八木雅广 ,  太田英一 ,  秋山善一 ,  田代亮 ,  町田治

IPC: B05D1/18 ,  B05C11/10

CPC classification number: H01L41/317 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  G01N21/8422 ,  G01N2021/8427

Abstract: 本发明的实施例提供一种薄膜制造方法和薄膜元件。该薄膜制造方法包括：将衬底放置到原材料溶液中，通过该原材料溶液在该衬底的第一主平面上形成薄膜；通过将光从光源施加到第一主平面侧，在该衬底的第一主平面上形成薄膜；通过应用来自该光源的光，测量从该衬底的第一主平面到该原材料溶液的液面的距离；以及基于测量时获得的测量结果，调整高度方向上该衬底的位置。