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公开(公告)号:CN118393512A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202410067298.1
申请日:2024-01-17
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及摄像装置、测距装置以及测距系统,其目的在于在照明部和光接受部的光轴彼此不同的ToF方式摄像装置中,排除测距对象视角内光接受单元所接受的点图案光过度接近的区域,取得正确的距离信息。本发明的摄像装置具备:壳体;投射结构光的第一光投射部;接受包括来自第一光投射部的结构光在内的入射光的第一光接受部;以及供摄像装置获得支撑的支撑部,第一光接受部、第一光投射部、支撑部按照第一光接受部、第一光投射部、支撑部的顺序,设置在壳体的第一方向上的不同位置上。
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公开(公告)号:CN116774497A
公开(公告)日:2023-09-19
申请号:CN202310207323.7
申请日:2023-03-06
Applicant: 株式会社理光
Inventor: 畑崎壮哉
Abstract: 本发明涉及照明装置和摄像系统,其目的在于实现大照射范围均匀照射。用来照射摄像装置的摄像范围的照明装置的特征在于,具有至少两个照明单元,所述至少两个照明单元分别具有沿规定方向排列设置的多个光源以及在所述多个光源的排列方向上延伸设置的聚光光学系统,所述多个光源的光通过所述聚光光学系统后会聚成线条形,所述至少两个照明单元以所述多个光源的排列方向、所述聚光光学系统的延伸方向、以及通过所述多个光源和所述聚光光学系统的光的会聚方向均互相构成角度而彼此朝外设置。
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公开(公告)号:CN119916336A
公开(公告)日:2025-05-02
申请号:CN202411518378.0
申请日:2024-10-29
Applicant: 株式会社理光
IPC: G01S7/484 , G01S7/4911 , G01S7/486 , G01S7/4912 , G01S17/08 , G01S17/894
Abstract: 本发明涉及光投射装置、光投射接受装置以及测距系统,其目的在于抑制光学系统为广角时投射到对象物上的光面积扩大。本发明的光投射装置包括:光源,射出至少一束光;光学系统,将从所述光源射出的所述光得到的图案光投射到对象物上,所述光学系统包括:第一透镜组,其中入射从所述光源射出的所述光;光学元件,从通过所述第一透镜组入射的所述光得到所述图案光;以及第二透镜组,其中入射从所述光学元件射出的所述图案光,所述第一透镜组具有正光焦度,所述第二透镜组具有正光焦度,并包括从所述光学元件一方起依次设置的、具有正光焦度的第三透镜组和具有负光焦度的第四透镜组。
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