信息处理装置、推论装置、机器学习装置、信息处理方法、推论方法、及机器学习方法

    公开(公告)号:CN119631164A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202380055328.0

    申请日:2023-06-28

    Inventor: 三谷隆一郎

    Abstract: 本发明提供一种可适当预测表示终点检测功能的可靠性的研磨终点检测功能的可靠性信息的信息处理装置,该终点检测功能检测化学机械研磨处理到达终点。信息处理装置(5)具备:信息获取部(500),该信息获取部获取可靠性降低原因状态信息,该可靠性降低原因状态信息包含通过基板处理装置(2)进行的基板的化学机械研磨处理中的表示基板处理装置(2)的构成要素的消耗状态的消耗状态信息和表示研磨加工中的加工状态的加工状态信息中的至少一个;及状态预测部(501),该状态预测部向学习模型输入通过信息获取部(500)获取的可靠性降低原因状态信息,来预测对应于该可靠性降低原因状态信息的研磨终点检测功能的可靠性信息,该学习模型通过机器学习而学习了可靠性降低原因状态信息与研磨终点检测功能的可靠性信息的相关关系,该研磨终点检测功能的可靠性信息表示检测化学机械研磨处理到达终点的终点检测功能的可靠性。

    抛光状态监测设备及使用其的抛光设备

    公开(公告)号:CN1849198A

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:CN200480025849.9

    申请日:2004-06-16

    CPC classification number: B24B37/013 B24B49/12

    Abstract: 提供一种能很容易掌握抛光进度的抛光状态监测设备。该抛光状态监测设备通过在扫描物体(12)的待抛光表面时在相隔预定间隔的每个采样点上获得表示该表面的状态的特征值来监测该表面的抛光进度。该设备包括能发射用于照射所述表面的光的发光装置(21);以及用于接收从所述表面反射的光以产生特征值的计算单元(26)。然后,该设备获取从每次扫描期间的相同采样时刻上的采样点获得的特征值。这使得可以根据到所述表面中心的距离来监测抛光的进度。

    抛光状态监测设备及使用其的抛光设备

    公开(公告)号:CN100542747C

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200480025849.9

    申请日:2004-06-16

    CPC classification number: B24B37/013 B24B49/12

    Abstract: 提供一种能很容易掌握抛光进度的抛光状态监测设备。该抛光状态监测设备通过在扫描物体(12)的待抛光表面时在相隔预定间隔的每个采样点上获得表示该表面的状态的特征值来监测该表面的抛光进度。该设备包括能发射用于照射所述表面的光的发光装置(21);以及用于接收从所述表面反射的光以产生特征值的计算单元(26)。然后,该设备获取从每次扫描期间的相同采样时刻上的采样点获得的特征值。这使得可以根据到所述表面中心的距离来监测抛光的进度。

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