公开(公告)号：CN1816898A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200480018723.9

申请日：2004-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 堀内隆夫 ,  小神野宏明 ,  新村惠弘 ,  服部博

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45593 ,  C23C16/4412 ,  C30B25/02 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供了基板处理系统，其有效地利用了用于处理基板表面的必要的活性物质或载气，简化了用于气体传递的设备，并节省了能源。所述系统包括用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源(12)，用于储存所述过程气的与气体供应源(12)相连的储罐(14)，用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器(10)，用于将反应器(10)内部的过程气引入储罐(14)的第一循环管(38)，用于将储罐(14)中的至少部分过程气引入反应器(10)的第二循环管(42)，和安置于第二循环管(42)中的用于调节待引入反应器(10)中的过程气的量的流量调节阀(44)。

公开(公告)号：CN100428412C

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：CN200480018723.9

申请日：2004-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 堀内隆夫 ,  小神野宏明 ,  新村惠弘 ,  服部博

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45593 ,  C23C16/4412 ,  C30B25/02 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供了基板处理系统，其有效地利用了用于处理基板表面的必要的活性物质或载气，简化了用于气体传递的设备，并节省了能源。所述系统包括用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源(12)，用于储存所述过程气的与气体供应源(12)相连的储罐(14)，用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器(10)，用于将反应器(10)内部的过程气引入储罐(14)的第一循环管(38)，用于将储罐(14)中的至少部分过程气引入反应器(10)的第二循环管(42)，和安置于第二循环管(42)中的用于调节待引入反应器(10)中的过程气的量的流量调节阀(44)。