公开(公告)号：CN1816898A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200480018723.9

申请日：2004-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 堀内隆夫 ,  小神野宏明 ,  新村惠弘 ,  服部博

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45593 ,  C23C16/4412 ,  C30B25/02 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供了基板处理系统，其有效地利用了用于处理基板表面的必要的活性物质或载气，简化了用于气体传递的设备，并节省了能源。所述系统包括用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源(12)，用于储存所述过程气的与气体供应源(12)相连的储罐(14)，用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器(10)，用于将反应器(10)内部的过程气引入储罐(14)的第一循环管(38)，用于将储罐(14)中的至少部分过程气引入反应器(10)的第二循环管(42)，和安置于第二循环管(42)中的用于调节待引入反应器(10)中的过程气的量的流量调节阀(44)。

公开(公告)号：CN100428412C

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：CN200480018723.9

申请日：2004-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 堀内隆夫 ,  小神野宏明 ,  新村惠弘 ,  服部博

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45593 ,  C23C16/4412 ,  C30B25/02 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供了基板处理系统，其有效地利用了用于处理基板表面的必要的活性物质或载气，简化了用于气体传递的设备，并节省了能源。所述系统包括用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源(12)，用于储存所述过程气的与气体供应源(12)相连的储罐(14)，用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器(10)，用于将反应器(10)内部的过程气引入储罐(14)的第一循环管(38)，用于将储罐(14)中的至少部分过程气引入反应器(10)的第二循环管(42)，和安置于第二循环管(42)中的用于调节待引入反应器(10)中的过程气的量的流量调节阀(44)。

公开(公告)号：CN100514007C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200610077837.1

申请日：2006-05-10

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 河岛浩康 ,  小神野宏明 ,  臼井克明 ,  中泽敏治

IPC: G01F1/24

CPC classification number: G01F1/28 ,  G01F1/22

Abstract: 本发明公开了一种流量计，其可以以高测量精度测量流体的小流量，尺寸小，可处理各种类型的试剂，且容易制造，成本低。所述流量计包括：壳体，其具有增大部分，并垂直布置；浮子，其封闭在所述壳体的增大部分中，且至少部分具有检测表面，所述检测表面从下面流过而进入壳体中以及向上流入壳体中的流体向上推；以及至少一个位移传感器，其设置在壳体的增大部分的外面，用于通过使浮子的检测表面磁化而检测浮子的轴向位移。

公开(公告)号：CN1862236A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610077837.1

申请日：2006-05-10

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 河岛浩康 ,  小神野宏明 ,  臼井克明 ,  中泽敏治

IPC: G01F1/24

CPC classification number: G01F1/28 ,  G01F1/22

Abstract: 本发明公开了一种流量计，其可以以高测量精度测量流体的小流量，尺寸小，可处理各种类型的试剂，且容易制造，成本低。所述流量计包括：壳体，其具有增大部分，并垂直布置；浮子，其封闭在所述壳体的增大部分中，且至少部分具有检测表面，所述检测表面从下面流过而进入壳体中以及向上流入壳体中的流体向上推；以及至少一个位移传感器，其设置在壳体的增大部分的外面，用于通过使浮子的检测表面磁化而检测浮子的轴向位移。