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公开(公告)号：CN100429752C
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200580003567.3
申请日：2005-02-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B9/00
CPC classification number: B24B37/02 , B24B9/065 , B24B21/002
Abstract: 本发明涉及一种抛光装置，所述抛光装置用于消除衬底的外围部分处产生的表面粗糙度，或者用于去除形成于衬底的外围部分上的膜。所述抛光装置包括：外壳(3)，其用于在其中形成抛光室(2)；旋转台(1)，其用于保持和旋转衬底(W)；抛光带供应机构(6)，其用于将抛光带(5)供应到抛光室(2)中并且收回已经供应至抛光室(2)的抛光带(5)；抛光头(35)，其用于将抛光带(5)压在衬底(W)的倾斜部分上；液体供应装置(50)，其用于将液体供应至衬底(W)的前表面和后表面上；以及调节机构(16)，其用于使抛光室(2)的内部压力被设置为低于抛光室(2)的外部压力。
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公开(公告)号：CN1246494C
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN02814386.8
申请日：2002-10-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C23C18/31 , H01L21/288
CPC classification number: C25D17/001 , C23C18/1617 , C23C18/1628 , C23C18/1676 , C23C18/50 , H01L21/288
Abstract: 本发明涉及一种喷镀装置，所述喷镀装置能够使得一喷镀液始终保持最佳的情况，同时使得所需的喷镀液的量最小化，其能够在一工件的喷镀表面上很容易地形成一均匀的喷镀薄膜。所述喷镀装置包括：一个喷镀液供给系统(70)，所述喷镀供给系统使得喷镀液不断地循环，同时加热在循环箱(80)中的喷镀液，其中所述循环箱中装有一加热装置(78a)，并且当进行喷镀加工时向喷镀加工部(24)提供一定量的喷镀液；一个喷镀液回收系统(72)，所述回收系统用于在喷镀加工后回收喷镀加工部(24)中的喷镀液，加热喷镀液，并且使得被加热的喷镀液返回至循环箱(80)中；以及一个喷镀液补充系统(74)，所述补充系统用于向所述循环箱(80)补充新的喷镀液或者一种喷镀液组分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1633520A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN02815036.8
申请日：2002-08-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: C23C18/1669 , C23C18/1619 , C23C18/1678 , H01L21/288 , H01L21/76843 , H01L21/76849 , H01L21/76864 , H01L21/76874
Abstract: 本发明提供了一种镀膜装置，其能够容易地在材料的将要被镀膜的表面上形成均匀的镀膜。该镀膜装置包括：保持器，其用于保持材料，使材料的将要被镀膜的表面朝上，而且所述将要被镀膜的表面的周部被密封住；热流体容纳部分，其用于容纳热流体，所述热流体能够接触由保持器保持着的材料的背侧表面，以加热所述材料；以及镀液供应部分，其用于向由保持部分保持着的材料的将要被镀膜的表面供应镀液。
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公开(公告)号：CN1914711A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200580003567.3
申请日：2005-02-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B9/00
CPC classification number: B24B37/02 , B24B9/065 , B24B21/002
Abstract: 本发明涉及一种抛光装置，所述抛光装置用于消除衬底的外围部分处产生的表面粗糙度，或者用于去除形成于衬底的外围部分上的膜。所述抛光装置包括：外壳(3)，其用于在其中形成抛光室(2)；旋转台(1)，其用于保持和旋转衬底(W)；抛光带供应机构(6)，其用于将抛光带(5)供应到抛光室(2)中并且收回已经供应至抛光室(2)的抛光带(5)；抛光头(35)，其用于将抛光带(5)压在衬底(W)的倾斜部分上；液体供应装置(50)，其用于将液体供应至衬底(W)的前表面和后表面上；以及调节机构(16)，其用于使抛光室(2)的内部压力被设置为低于抛光室(2)的外部压力。
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公开(公告)号：CN1280872C
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN02814380.9
申请日：2002-07-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 本乡明久
CPC classification number: H01L21/67161 , C25D7/123 , C25D17/001 , H01L21/2885 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/6723 , H01L21/68728
Abstract: 用于电镀基片的电镀装置，包括一个限定在一个清洁室中的加工部分(12)，设置在加工部分(12)用于加工基片的加工单元(5，6)，一个限定在加工部分(12)中的电镀部分(14)，和一个设置在电镀部分(14)中用于电镀基片(W)的电镀单元(4)。可与电镀部分(14)外部的加工部分(12)无关地向电镀部分(14)供应和从中排出空气。电镀装置还包括一个用于将电镀部分(14)与加工部分(12)隔开的间隔壁(10)，和至少一个限定在间隔壁(10)中用于在电镀部分(14)和加工部分(12)之间传送基片(W)的开口。
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公开(公告)号：CN1533586A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN02814380.9
申请日：2002-07-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 本乡明久
CPC classification number: H01L21/67161 , C25D7/123 , C25D17/001 , H01L21/2885 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/6723 , H01L21/68728
Abstract: 用于电镀基片的电镀装置，包括一个限定在一个清洁室中的加工部分(12)，设置在加工部分(12)用于加工基片的加工单元(5，6)，一个限定在加工部分(12)中的电镀部分(14)，和一个设置在电镀部分(14)中用于电镀基片(W)的电镀单元(4)。可与电镀部分(14)外部的加工部分(12)无关地向电镀部分(14)供应和从中排出空气。电镀装置还包括一个用于将电镀部分(14)与加工部分(12)隔开的间隔壁(10)，和至少一个限定在间隔壁(10)中用于在电镀部分(14)和加工部分(12)之间传送基片(W)的开口。
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公开(公告)号：CN1533448A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN02814386.8
申请日：2002-10-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C23C18/31 , H01L21/288
CPC classification number: C25D17/001 , C23C18/1617 , C23C18/1628 , C23C18/1676 , C23C18/50 , H01L21/288
Abstract: 本发明涉及一种喷镀装置，所述喷镀装置能够使得一喷镀液始终保持最佳的情况，同时使得所需的喷镀液的量最小化，其能够在一工件的喷镀表面上很容易地形成一均匀的喷镀薄膜。所述喷镀装置包括：一个喷镀液供给系统(70)，所述喷镀供给系统使得喷镀液不断地循环，同时加热在循环箱(80)中的喷镀液，其中所述循环箱中装有一加热装置(78a)，并且当进行喷镀加工时向喷镀加工部(24)提供一定量的喷镀液；一个喷镀液回收系统(72)，所述回收系统用于在喷镀加工后回收喷镀加工部(24)中的喷镀液，加热喷镀液，并且使得被加热的喷镀液返回至循环箱(80)中；以及一个喷镀液补充系统(74)，所述补充系统用于向所述循环箱(80)补充新的喷镀液或者一种喷镀液组分。
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