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公开(公告)号：CN112237856B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202010284379.9
申请日：2020-04-13
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种提高了气体溶解度的气体溶解液制造装置，具有：泵，该泵使液体升压；配管，该配管与该泵连通；喷嘴，该喷嘴配置于该配管并使用供给来的气体产生微小气泡；以及气液分离箱，该气液分离箱的上部与该配管连通，该气液分离箱将利用该喷嘴生成的气液混合液分离为气体和液体。
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公开(公告)号：CN117643807A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202311123205.4
申请日：2023-09-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种即使提供至使用点的气体溶解液为高浓度，也能够抑制在使用点处使用时产生气泡的气体溶解液供给装置和使用该气体溶解液供给装置执行的方法。气体溶解液供给装置(1)具备：使原料气体溶解于原料液体而生成第一气体溶解液的气体溶解部(4)；供生成的第一气体溶解液贮留，并且生成从第一气体溶解液气液分离出的第二气体溶解液的第一气液分离器(10)；对通过第一气液分离器(10)生成的第二气体溶解液进行减压的减压器(17)；以及供减压后的第二气体溶解液贮留，并且生成从第二气体溶解液气液分离出的第三气体溶解液的第二气液分离器(12)。向使用点供给第三气体溶解液。
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公开(公告)号：CN114272776A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111158227.5
申请日：2021-09-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种能够实现气体溶解液的高浓度化，能够抑制气体溶解液的送出压力的变动的气体溶解液供给装置及由气体溶解液供给装置执行的方法。气体溶解液供给装置(1)具备：积存气体溶解液的第一气液分离器(8)、设置于第一气液分离器的后段并积存向使用点供给的气体溶解液的第二气液分离器(16)、设置于第一气液分离器和第二气液分离器之间的中间线路(17)、设置于中间线路并使从第一气液分离器向第二气液分离器供给的气体溶解液的压力上升的升压泵(18)、供给成为气体溶解液的原料的气体的气体供给线路(2)、设置于中间线路并使从气体供给线路供给的气体溶解于从第一气液分离器供给的气体溶解液的气体溶解部(20)。
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公开(公告)号：CN108705383A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201810253976.8
申请日：2018-03-26
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67051 , B24B9/065 , B24B21/002 , B24B21/004 , B24B21/008 , B24B37/00 , H01L21/02021 , H01L21/02087 , H01L21/67288 , H01L22/12 , H01L22/20 , B24B1/00 , B08B3/02 , B24B21/18 , B24B49/12
Abstract: 本发明提供基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统，能够在研磨基板的周缘部后清洗基板的周缘部，并确认该清洗效果，另外能够清洗以往不太能够清洗到的区域即基板的周缘部。基板保持部(2)保持基板(W)并使其旋转，通过第一头(3A、3B)将具有磨粒的研磨带(PT)按压于基板(W)的周缘部而研磨基板(W)的周缘部，通过清洗喷嘴(53)向研磨后的基板(W)的周缘部供给清洗液而清洗基板(W)的周缘部，通过第二头(3D)使不具有磨粒的带(T)与清洗后的基板(W)的周缘部接触，通过传感器(70)对与基板(W)的周缘部接触后的带(T)照射光并接收来自带(T)的反射光，在接收的反射光的强度低于规定值的情况下判定为基板(W)的周缘部被污染。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108472783A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201780001292.2
申请日：2017-01-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B21/00 , B24B9/00 , B24B49/12 , H01L21/304
CPC classification number: B24B9/065 , B24B21/002 , B24B49/12 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，即使斜角部的形状有各种状况，仍可根据研磨前的状态选择适当的研磨处理程序进行研磨。研磨装置(100)具有：保持基板(W1)而研磨的保持研磨部(102)；及辨识关于进行研磨前的基板(W1)外周部的状态的数据(104a)的辨识部(104)。保持研磨部(102)具有：保持基板(W1)使其旋转的保持部(106)；及将研磨部件按压于基板(W1)的外周部来研磨外周部的研磨部(108)。研磨条件决定部(110)根据表示外周部的形状是关于形状的多类型中的哪种类型的数据(104a)来决定研磨条件。
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公开(公告)号：CN103962918A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410043731.4
申请日：2014-01-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B9/065 , B24B21/002 , B24B21/004 , B24B21/008 , B24B21/06 , B24B27/0076 , H01L21/02035 , H01L21/463
Abstract: 一种研磨方法，使基板(W)旋转，按压第1研磨件(3A)使其与基板(W)的边缘部接触而对该边缘部进行研磨，按压第2研磨件(3B)使其与边缘部接触而对该边缘部进行研磨，所述第2研磨件在基板(W)的径向配置在第1研磨件(3A)的内侧，第1研磨件(3A)具有比第2研磨件(3B)粗的研磨面。采用本发明，可提高研磨速率，且可在基板的边缘部上形成平滑的垂直面。
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公开(公告)号：CN109954414B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201811585934.0
申请日：2018-12-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供气体溶解液制造装置及气体溶解液的制造方法。气体溶解液制造装置(1)具备气体供给部(2)、第一液体供给部(3)、气体溶解液生成部(4)、第二液体生成部(20)、第二液体供给部(21)、流量测定部(14)、以及控制部(23)。控制部(23)根据在流量测定部(14)测定的循环的气体溶解液的流量，对供给到气体溶解液生成部(4)的第一液体的供给量进行控制。气体溶解液生成部(4)使从气体供给部(2)供给的气体溶解于从第一液体供给部(3)供给的第一液体和从第二液体供给部(21)供给的第二液体，从而生成气体溶解液。
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公开(公告)号：CN108705383B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201810253976.8
申请日：2018-03-26
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统，能够在研磨基板的周缘部后清洗基板的周缘部，并确认该清洗效果，另外能够清洗以往不太能够清洗到的区域即基板的周缘部。基板保持部(2)保持基板(W)并使其旋转，通过第一头(3A、3B)将具有磨粒的研磨带(PT)按压于基板(W)的周缘部而研磨基板(W)的周缘部，通过清洗喷嘴(53)向研磨后的基板(W)的周缘部供给清洗液而清洗基板(W)的周缘部，通过第二头(3D)使不具有磨粒的带(T)与清洗后的基板(W)的周缘部接触，通过传感器(70)对与基板(W)的周缘部接触后的带(T)照射光并接收来自带(T)的反射光，在接收的反射光的强度低于规定值的情况下判定为基板(W)的周缘部被污染。
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公开(公告)号：CN113213610A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110096167.2
申请日：2021-01-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C02F1/68
Abstract: 本发明提供一种能够将未溶解于气体溶解液的气体再利用来生成高浓度的气体溶解液的气体溶解液制造装置。气体溶解液制造装置(1)具备：气体供给管线(2)，供给作为气体溶解液的原料的气体；液体供给管线(3)，供给作为气体溶解液的原料的液体；气体溶解液生成部(4)，将气体与液体混合而生成气体溶解液；气液分离部(5)，将生成的气体溶解液气液分离为向使用点供给的供给液体和从排气口排出的排出气体；以及气体溶解部(6)，设置于液体供给管线(4)，且使气液分离后的排出气体溶解于液体。气体溶解部(6)由中空纤维膜构成，该中空纤维膜由气体透过性膜构成。
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