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公开(公告)号：CN106891226B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201611167264.1
申请日：2016-12-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种能够将晶片的中心精度良好地定位于载置台的轴心的基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质。基板输送用移载机包括彼此相对的一对手部、使一对手部在开闭方向上彼此对称地移动的开闭机构、向开闭机构传递动力的驱动部以及控制驱动部的动作的控制部。开闭机构具有根据一对手部的开闭方向的移动量进行旋转的旋转体以及检测旋转体的旋转量的传感器。控制部基于来自传感器的信号控制驱动部的动作。
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公开(公告)号：CN110055569A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910042284.3
申请日：2019-01-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供电流测定模块及检查用基板，能检测出因基板保持件的原因导致的电阻异常。电流测定模块使用检查用基板检测检测流向基板保持件的电流，基板保持件具有向基板供给电流且能与基板接触的多个保持件电接点，并能保持检查用基板，在保持检查用基板的状态下多个保持件电接点各自与设置于检查用基板的电独立的多个基板电接点分别接触，检查用基板具有：通过配线与多个基板电接点分别连接的多个测定点；与多个测定点电连结的基板侧连接器，电流测定模块具有：能与检查用基板的多个测定点分别接触的多个检查探针；与多个检查探针电连结的测定侧连接器，将基板侧连接器与测定侧连接器连接，检查用基板的多个测定点各自与多个检查探针分别电连接。
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公开(公告)号：CN110026869A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201910028583.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供抑制成本，并且不需要对象处理的处理间的追加处理就使施加于处理带的张力恒定的基板处理装置以及控制方法。一种基板处理装置，使处理带抵接于处理对象物，通过该处理带和处理对象物的相对运动来处理该处理对象物，并且所述基板处理装置具有带供给卷轴、带回收卷轴、向带回收卷轴提供转矩的回收用电动机、送出处理带的带进给电动机以及控制带进给电动机的控制部，控制部使用由带进给电动机送出的带进给长度和该处理带的厚度，并配合由带回收卷轴卷绕的处理带的卷绕体的外径的变化来控制回收用电动机的转矩，以使得施加于该处理带的张力恒定。
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公开(公告)号：CN110055569B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201910042284.3
申请日：2019-01-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供电流测定模块及检查用基板，能检测出因基板保持件的原因导致的电阻异常。电流测定模块使用检查用基板检测检测流向基板保持件的电流，基板保持件具有向基板供给电流且能与基板接触的多个保持件电接点，并能保持检查用基板，在保持检查用基板的状态下多个保持件电接点各自与设置于检查用基板的电独立的多个基板电接点分别接触，检查用基板具有：通过配线与多个基板电接点分别连接的多个测定点；与多个测定点电连结的基板侧连接器，电流测定模块具有：能与检查用基板的多个测定点分别接触的多个检查探针；与多个检查探针电连结的测定侧连接器，将基板侧连接器与测定侧连接器连接，检查用基板的多个测定点各自与多个检查探针分别电连接。
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公开(公告)号：CN110026869B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201910028583.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供抑制成本，并且不需要对象处理的处理间的追加处理就使施加于处理带的张力恒定的基板处理装置以及控制方法。一种基板处理装置，使处理带抵接于处理对象物，通过该处理带和处理对象物的相对运动来处理该处理对象物，并且所述基板处理装置具有带供给卷轴、带回收卷轴、向带回收卷轴提供转矩的回收用电动机、送出处理带的带进给电动机以及控制带进给电动机的控制部，控制部使用由带进给电动机送出的带进给长度和该处理带的厚度，并配合由带回收卷轴卷绕的处理带的卷绕体的外径的变化来控制回收用电动机的转矩，以使得施加于该处理带的张力恒定。
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公开(公告)号：CN106891226A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201611167264.1
申请日：2016-12-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67173 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/68707 , B24B21/002 , B24B21/18 , B24B41/005
Abstract: 本发明提供一种能够将晶片的中心精度良好地定位于载置台的轴心的基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质。基板输送用移载机包括彼此相对的一对手部、使一对手部在开闭方向上彼此对称地移动的开闭机构、向开闭机构传递动力的驱动部以及控制驱动部的动作的控制部。开闭机构具有根据一对手部的开闭方向的移动量进行旋转的旋转体以及检测旋转体的旋转量的传感器。控制部基于来自传感器的信号控制驱动部的动作。
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