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公开(公告)号：CN106891226B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201611167264.1
申请日：2016-12-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种能够将晶片的中心精度良好地定位于载置台的轴心的基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质。基板输送用移载机包括彼此相对的一对手部、使一对手部在开闭方向上彼此对称地移动的开闭机构、向开闭机构传递动力的驱动部以及控制驱动部的动作的控制部。开闭机构具有根据一对手部的开闭方向的移动量进行旋转的旋转体以及检测旋转体的旋转量的传感器。控制部基于来自传感器的信号控制驱动部的动作。
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公开(公告)号：CN107868975A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710763259.5
申请日：2017-08-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: C25D17/06 , C25D17/00 , C25D17/001 , C25D7/12
Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。
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公开(公告)号：CN113021173A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202011535044.6
申请日：2020-12-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/005 , B24B37/10 , B24B37/32 , B24B37/34 , B24B49/12
Abstract: 本发明提供一种使检测基板从顶环跳出的精度提高的研磨单元、基板处理装置、及研磨方法。研磨单元(300)包含：贴合有用于研磨基板(WF)的研磨垫(352)的研磨台(350)；用于保持基板(WF)并将该基板按压于研磨垫(352)的顶环(302)；用于发射光至在研磨垫(352)上的检测区域(372)的光发射构件(371)；用于依据从检测区域(372)所反射的光来检测基板(WF)从顶环(302)跳出的情况的滑出检测器(370)；以及排除流入检测区域(372)的研磨液的排除机构(380)。
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公开(公告)号：CN106891226A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201611167264.1
申请日：2016-12-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67173 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/68707 , B24B21/002 , B24B21/18 , B24B41/005
Abstract: 本发明提供一种能够将晶片的中心精度良好地定位于载置台的轴心的基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质。基板输送用移载机包括彼此相对的一对手部、使一对手部在开闭方向上彼此对称地移动的开闭机构、向开闭机构传递动力的驱动部以及控制驱动部的动作的控制部。开闭机构具有根据一对手部的开闭方向的移动量进行旋转的旋转体以及检测旋转体的旋转量的传感器。控制部基于来自传感器的信号控制驱动部的动作。
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公开(公告)号：CN107868975B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201710763259.5
申请日：2017-08-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107030570B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201611052775.9
申请日：2016-11-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于提供一种校正装置，该校正装置能够使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节，而无需移除其上可放置有基板的台阶。本发明的一个实施例提供一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置，包含：载荷测量设备，其能够测量来自斜面抛光系统的抛光垫片的按压载荷；和底板，在其上能够放置有载荷测量设备，其中，底板能够固定在能够在其上放置基板的真空吸附台上。
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公开(公告)号：CN107081673A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201710064401.7
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B1/00 , B08B11/02 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , B24B37/32 , B24B37/10 , B24B37/345 , B24B57/02 , H01L21/67092 , H01L21/67772 , H01L21/67778
Abstract: 本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
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公开(公告)号：CN106994645A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN118202446A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280074515.9
申请日：2022-10-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及对基板进行处理的基板处理装置。基板处理装置(10)具备：至少一个第一处理模块(21a、21b)，该至少一个第一处理模块使用液体对基板(W)进行处理；至少一个第二处理模块(31)，该至少一个第二处理模块对由第一处理模块(21a、21b)处理后的基板(W)进行处理；搬运机器人(22)，该搬运机器人配置于搬运区域(28)，将基板(W)从第一处理模块(21a、21b)向第二处理模块(31)搬运；一对流槽(53、54)，该一对流槽配置于搬运区域(28)的地板(51)的上方，与排放管线(58)连结；以及至少一个倾斜板(56)，该至少一个倾斜板架设于一对流槽(53、54)。倾斜板(56)的上表面从一对流槽(53、54)中的一方的流槽相对于水平方向倾斜地延伸到另一方的流槽。
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公开(公告)号：CN113021173B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202011535044.6
申请日：2020-12-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/005 , B24B37/10 , B24B37/32 , B24B37/34 , B24B49/12
Abstract: 本发明提供一种使检测基板从顶环跳出的精度提高的研磨单元、基板处理装置、及研磨方法。研磨单元(300)包含：贴合有用于研磨基板(WF)的研磨垫(352)的研磨台(350)；用于保持基板(WF)并将该基板按压于研磨垫(352)的顶环(302)；用于发射光至在研磨垫(352)上的检测区域(372)的光发射构件(371)；用于依据从检测区域(372)所反射的光来检测基板(WF)从顶环(302)跳出的情况的滑出检测器(370)；以及排除流入检测区域(372)的研磨液的排除机构(380)。
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