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公开(公告)号：CN102236248A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201010153020.4
申请日：2010-04-20
Applicant: 株式会社COWINDST
Abstract: 本公开内容涉及一种用于修复半色调掩模的方法和系统，其可通过执行一个修复过程来确保修复部分均匀的透过率，且即便是在表层膜形成之后，也能提供除去缺陷这一功能，所述修复过程包括：使用激光束从半色调掩模中除去缺陷；在缺陷区域上有效地形成阻挡膜；调节阻挡膜的厚度；以及实时地调节透过率。
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