公开(公告)号：CN115398323A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180026806.6

申请日：2021-08-02

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金在镇 ,  辛富建 ,  郑普逻 ,  黄惠垣 ,  权徒敬

IPC: G02F1/1335 ,  G02B27/01 ,  F21V8/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32

Abstract: 本发明涉及显示装置，并且特别地，涉及这样的显示装置：其通过经由光散射单元使通过光输出单元输出的光在给定方向上散射而能够使由于光衍射而发生的光损失最小化。

公开(公告)号：CN111050898B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201880052374.4

申请日：2018-09-05

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金恩贞 ,  崔峻源 ,  郑镇美 ,  林艺勋 ,  辛富建

IPC: B01J6/00 ,  B01J19/12 ,  B82Y40/00

公开(公告)号：CN111033117B

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201880052164.5

申请日：2018-08-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  金忠完 ,  章盛皓 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: F21V8/00

Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。

公开(公告)号：CN109922962B

公开(公告)日：2021-04-27

申请号：CN201780068537.3

申请日：2017-11-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴正岵 ,  李镇洙 ,  辛富建

IPC: B32B43/00 ,  B32B27/36 ,  B32B27/28 ,  B32B27/32 ,  H01B5/14 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339

Abstract: 本发明涉及一种使用Q开关IR激光形成大面积液晶装置的图案的方法，其中激光束的直径为从1mm至16mm，每脉冲能量为从0.05J至2.5J。

公开(公告)号：CN112334816A

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201980041979.8

申请日：2019-09-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐大韩 ,  金在镇 ,  宋民守 ,  辛富建

IPC: G02B27/01 ,  G03H1/22 ,  G02B5/32

Abstract: 根据本发明的一方面的一个实施方案提供了全息光学元件的制造方法，其包括：将其中光在照射方向上散布的第一激光照射在光敏基底的一个表面上；以及将其中光在照射方向上收集的第二激光照射在光敏基底的另一个表面上，其中可以照射第一激光和第二激光，使得在光敏基底上其中第一激光的光和第二激光的光相交的光敏区域的预定位置处存在复数个组，在所述复数个组中由第一激光的光的行进方向与第二激光的光的行进方向形成的相交角度彼此不同。根据本发明的另一方面的一个实施方案提供了显示装置，其包括：透镜单元，所述透镜单元包括通过根据本发明的一方面的一个实施方案制造的全息光学元件；和光照射单元，所述光照射单元将在照射方向上散布的光照射至全息光学元件，其中光照射单元照射以与第二激光的光收集的角度相同的角度散布的光。

公开(公告)号：CN111587171A

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN201980007555.X

申请日：2019-06-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  章盛皓 ,  金忠完 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: B29C33/38 ,  B29D11/00 ,  F21V8/00 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明涉及通过使用两种掩模膜来制造用于衍射光栅导光板的模具的方法，以及涉及制造衍射光栅导光板的方法，所述模具具有设置在其一个表面上的第一图案部分至第四图案部分。

公开(公告)号：CN111448642A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201880079529.3

申请日：2018-12-14

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  章盛皓 ,  金忠完 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/311

Abstract: 本发明提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括：在其上表面上设置有网部分的法拉第笼中准备蚀刻基板的步骤，所述基板具有设置在其一个表面上的金属掩模，所述金属掩模具有开口图案部分；通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第一图案区域的第一图案化步骤；以及在通过使用遮板遮挡网部分的至少一部分之后通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第二图案区域的第二图案化步骤。

公开(公告)号：CN109891314A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201780067136.6

申请日：2017-12-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴正岵 ,  辛富建 ,  许殷奎

IPC: G02F1/155 ,  G02F1/163 ,  G02F1/1337 ,  C09K19/56 ,  H01B1/22 ,  H01B1/24 ,  H01S3/067

Abstract: 本发明涉及用于形成变色液晶装置的配线部分的方法和变色液晶装置，所述变色液晶装置包括基板、透明电极和取向层，所述方法的特征在于通过激光在所述取向层上形成均匀间隔的蚀刻线，以及用导电糊料涂覆所述蚀刻线的凹部部分，从而使受损透明电极的导电性恢复，并形成高度可靠的配线部分。

公开(公告)号：CN116783540A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202280012584.7

申请日：2022-09-30

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金在镇 ,  郑普逻 ,  黄惠垣 ,  柳然才 ,  李俊永 ,  辛富建 ,  宋民守

IPC: G02B27/01

Abstract: 本公开内容提供了波导显示装置。本公开内容的波导显示装置是用于校正曲面反射失真的波导显示装置，所述波导显示装置包括：波导，所述波导用于引导从外部输入的光；第一衍射光学元件，所述第一衍射光学元件设置在波导处并且使从外部输入的光衍射到波导的内部；和第二衍射光学元件，所述第二衍射光学元件设置在波导处并且使由波导引导的光衍射以朝向位于外部的曲面反射器的方向输出多束衍射光，其中所述第二衍射光学元件具有与曲面反射器的曲率对应的衍射光栅的结构，使得衍射光在曲面反射器的不同位置处以彼此平行的方向被反射。

公开(公告)号：CN111052319B

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN201880054020.3

申请日：2018-10-19

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  金忠完 ,  章盛晧 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01J37/32

Abstract: 本说明书提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述等离子体蚀刻方法包括：将在其上表面上具有网部分的法拉第笼设置在等离子体蚀刻装置中的步骤；将石英基板设置在法拉第笼内部的步骤，所述石英基板在其一个表面上具有金属掩模，所述金属掩模中具有开口；以及其中使用等离子体蚀刻对石英基板进行蚀刻的图案化步骤。其中，法拉第笼的底表面包含具有比金属掩模更低的电离倾向的金属。