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公开(公告)号：CN204086922U
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201420576372.4
申请日：2014-09-30
Applicant: 桑德斯微电子器件(南京)有限公司
IPC: G05B19/05
Abstract: 本实用新型公开了一种离子溅射仪控制系统，属于半导体制造设备领域。一种离子溅射仪控制系统，包括RF电源、直流电源，、PLC控制器、真空仪表、传感器、触摸屏和执行输出，其中，所述的传感器和PLC控制器连接，传感器采集的信号传输到PLC控制器；PLC控制器和执行输出连接，PLC控制器处理后的信号传输到执行输出；所述的PLC控制器还分别与真空仪表、RF电源、触摸屏、直流电源连接，所述的PLC控制器分别与真空仪表、RF电源、触摸屏、直流电源之间进行双向信号传输，所述的传感器设置于离子溅射仪机台内。它可以实现机台的一键操作，过程全部自动化，操作人员只要装片和取片，操作简单，准确性好，生产产品质量稳定。
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