公开(公告)号：CN104349848B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280073834.4

申请日：2012-08-31

Applicant: 森邦夫 ,  株式会社硫黄化学研究所 ,  名幸电子有限公司

Inventor： 森邦夫 ,  松野祐亮 ,  森克仁 ,  工藤孝广 ,  泷井秀吉 ,  道胁茂 ,  宫胁学 ,  矢内正训 ,  神山孝一 ,  千叶瞳 ,  增田泰之

IPC: B05D7/24 ,  B32B7/04 ,  B32B15/04 ,  C07F7/18 ,  C09D183/00 ,  C09D185/00

CPC classification number: C07F7/1804 ,  Y10T428/31678

Abstract: 提供一种表面处理技术，其富有密接功能、反应功能，而且具有多样性。表面处理方法通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，所述化合物α至少含有M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素、氨基以及三嗪环，所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，所述氨基结合到末端，所述结合到末端的氨基具有一个以上，所述三嗪环具有一个以上。

公开(公告)号：CN104349848A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201280073834.4

申请日：2012-08-31

Applicant: 森邦夫 ,  株式会社硫黄化学研究所 ,  名幸电子有限公司

Inventor： 森邦夫 ,  松野祐亮 ,  森克仁 ,  工藤孝广 ,  泷井秀吉 ,  道胁茂 ,  宫胁学 ,  矢内正训 ,  神山孝一 ,  千叶瞳 ,  增田泰之

IPC: B05D7/24 ,  B32B7/04 ,  B32B15/04 ,  C07F7/18 ,  C09D183/00 ,  C09D185/00

CPC classification number: C07F7/1804 ,  Y10T428/31678

Abstract: 提供一种表面处理技术，其富有密接功能、反应功能，而且具有多样性。表面处理方法通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，所述化合物α至少含有M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素、氨基以及三嗪环，所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，所述氨基结合到末端，所述结合到末端的氨基具有一个以上，所述三嗪环具有一个以上。