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公开(公告)号：CN101276072A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810088460.9
申请日：2008-03-31
Applicant: 欧姆龙株式会社
Abstract: 本发明涉及一种以激光修复装置为代表的激光转印装置中，可将转印材料的薄膜和转印对象体的距离持续保持在微米级(例如，5～20μm)的激光转印装置的激光头。其具有：开设有下面保持有转印板，且使转印板向上面侧露出的转印窗口的转印板保持架、具有所述转印板保持架收纳用的空间，同时提供水平方向及垂直方向的位置基准的转印头机体、相对于所述转印头机体，以上下可动且水平不可动的形式来支承收纳于所述转印头机体的转印板保持架收纳用的空间内的转印板保持架的保持架支承机构、通过向所述转印板的下方喷射压力气体，使所述转印板与所述转印板保持架一起相对于所述被转印面浮出的转印板浮起装置。
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