溴化汞晶体作为红外波段非线性光学材料的应用

    公开(公告)号:CN101334570A

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200810048261.5

    申请日:2008-07-02

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明涉及溴化汞晶体作为红外波段非线性光学材料的应用。HgBr2晶体粉末倍频效应约为10×KDP,且能够相位匹配;在400-800纳米(即可见光区)和2.5-25微米(即中红外光谱仪的工作波段)全透过;激光损伤阈值可达0.3GW/cm2以上,这个数据在现有的红外非线性光学材料中遥遥领先,比现有已知的报道过的最高数值(LiInS2的0.1GW/cm2)有明显提高;可以作为优秀的红外波段非线性光学晶体,而且特别适合于高功率激光频率转换方面的应用。

    非线性光学晶体材料及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN100362145C

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200510019301.X

    申请日:2005-08-16

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明公开分子式为:Hg2OSO4或Hg3O2SO4的非线性光学晶体材料。其制备方法为:将摩尔比为2∶1或1∶1的HgO和HgSO4碾磨均匀,装入安培管中;然后将安培管抽真空至0.1Pa以下,封管;置入马福炉中,在500~540℃之间反应100小时以上,即得到上述非线性光学晶体材料Hg3O2SO4或Hg2OSO4。上述非线性光学晶体材料在紫外到近红外光区有很大的透光窗口,有较大的二阶非线性光学系数,有良好的物化稳定性,并能得到较大尺寸的单晶,因此可用作二阶非线性光学材料。

    非线性光学晶体材料及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN1737217A

    公开(公告)日:2006-02-22

    申请号:CN200510019301.X

    申请日:2005-08-16

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明公开通式为:HgaObSO4式中a=2-3,b=1-2的非线性光学晶体材料。其制备方法为:将摩尔比为2∶1或1∶1的HgO和HgSO4碾磨均匀,装入安培管中;然后将安培管抽真空至0.1Pa以下,封管;置入马弗炉中,在500~540℃之间反应100小时以上,即得到上述非线性光学晶体材料。上述非线性光学晶体材料在紫外到近红外光区有很大的透光窗口,有较大的二阶非线性光学系数,有良好的物化稳定性,并能得到较大尺寸的单晶,因此可用作二阶非线性光学材料。

    一种无机红外非线性光学晶体材料及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN101216656B

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200810046687.7

    申请日:2008-01-14

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明公开了一种红外二阶非线性光学晶体材料CsHg1.5I4及其制备方法和应用。该光学晶体材料的晶体空间群为Cm。突出特点是:有大的可相位匹配的二阶非线性光学系数;在可见光区和红外光区有很大的透光窗口;具有较高的热稳定性;合成方法操作简单、反应时间短、实验条件温和、产品纯度高;可利用简单的溶剂挥发法长出质量好、尺寸大的晶体等;该晶体材料能广泛应用于光学领域。

    溴化汞晶体作为红外波段非线性光学材料的应用

    公开(公告)号:CN100576050C

    公开(公告)日:2009-12-30

    申请号:CN200810048261.5

    申请日:2008-07-02

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明涉及溴化汞晶体作为红外波段非线性光学材料的应用。HgBr2晶体粉末倍频效应约为10×KDP,且能够相位匹配;在400-800纳米(即可见光区)和2.5-25微米(即中红外光谱仪的工作波段)全透过;激光损伤阈值可达0.3GW/cm2以上,这个数据在现有的红外非线性光学材料中遥遥领先,比现有已知的报道过的最高数值(LiInS2的0.1GW/cm2)有明显提高;可以作为优秀的红外波段非线性光学晶体,而且特别适合于高功率激光频率转换方面的应用。

    一种二阶非线性光学晶体材料的合成方法

    公开(公告)号:CN100443641C

    公开(公告)日:2008-12-17

    申请号:CN200610019266.6

    申请日:2006-06-05

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明公开了一种二阶非线性光学晶体材料,其分子式为KLiBeF4,晶体空间群为P63。本发明还提供了上述二阶非线性光学晶体材料的制备方法,将氢氧化锂、氢氧化钾、氟化铍和氟氢酸铵置入反应器中,加入蒸馏水,搅拌下加入氢氟酸,调节pH值至5-7;密封,加热到140~160摄氏度,并保持恒温20小时以上;降至室温,过滤,得到无色透明的晶体;所得晶体用蒸馏水洗涤,真空干燥,得到二阶非线性光学晶体。本发明二阶非线性光学晶体材料在深紫外、可见光区和红外光区有很大的透光窗口,有较大的二阶非线性光学系数,具有优良的热稳定性;合成方法具有操作简单,可以直接获得单晶等优点。

    一种二阶非线性光学晶体材料及其合成方法和用途

    公开(公告)号:CN1888147A

    公开(公告)日:2007-01-03

    申请号:CN200610019266.6

    申请日:2006-06-05

    Applicant: 武汉大学

    Abstract: 本发明公开了一种二阶非线性光学晶体材料,其分子式为KLiBeF4,晶体空间群为P63。本发明还提供了上述二阶非线性光学晶体材料的制备方法,将氢氧化锂、氢氧化钾、氟化铍和氟氢酸铵置入反应器中,加入蒸馏水,搅拌下加入氢氟酸,调节pH值至5-7;密封,加热到140~160摄氏度,并保持恒温20小时以上;降至室温,过滤,得到无色透明的晶体;所得晶体用蒸馏水洗涤,真空干燥,得到二阶非线性光学晶体。本发明二阶非线性光学晶体材料在深紫外、可见光区和红外光区有很大的透光窗口,有较大的二阶非线性光学系数,具有优良的热稳定性;合成方法具有操作简单,可以直接获得单晶等优点。

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