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公开(公告)号:CN105699232B
公开(公告)日:2018-11-13
申请号:CN201610164170.2
申请日:2016-03-22
Applicant: 武汉科技大学
IPC: G01N3/56
Abstract: 本发明公开了一种可控磨损载荷的试验装置,包括:工作台、电机、磨盘、试样和可控磨损载荷实验装置;所述磨盘连接在所述电机上,所述电机固定在所述工作台上,所述试样一端置入所述可控磨损载荷实验装置上,另一端与所述磨盘接触,所述可控磨损载荷实验装置固定在工作台上;可控载荷加载范围为0~500N;磨损刻度磨损范围0~20mm,精度可达0.01mm。本发明结构简单,维修方便,并容易实现通过调换加载载荷弹簧来满足不同载荷下的测试。
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公开(公告)号:CN103316912A
公开(公告)日:2013-09-25
申请号:CN201310286070.3
申请日:2013-07-09
Applicant: 武汉科技大学
IPC: B21B1/22
Abstract: 本发明具体涉及一种极薄铌带的轧制方法。其技术方案是,所述轧制方法包括轧制设备和轧制工艺两部分:轧制设备采用16辊轧机,16辊轧机的辊型是:16辊轧机的上中间辊的锥长度为40mm,辊径差为0.1mm;16辊轧机的下中间辊的锥长度为40mm,辊径差为0.15mm;16辊轧机的工作辊为平辊,工作辊直径为22mm,工作长度为200mm。轧制工艺是在室温条件下采用三道次轧制,待轧制的铌带为工业级,含铌量≥99wt%;待轧制的铌带宽度为145~155mm,厚度为0.08~0.12mm。第三道次轧制完成后的铌带厚度为0.017~0.019mm。本发明不仅具有节省能源、工序简单和提高效率的特点,且能降低后续加工的劳动强度。
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公开(公告)号:CN106282779B
公开(公告)日:2018-03-13
申请号:CN201610862524.0
申请日:2016-09-29
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明涉及一种取向高硅钢薄带及其制备方法。其技术方案是:取向高硅钢薄带的化学成分是:Si为5.5~6.8wt%;Cu为0.3~0.6wt%;Al为0.1~0.3wt%;S为0.01~0.015wt%;N为0.005~0.01wt%;其余为Fe和不可避免的杂质。按取向高硅钢薄带的化学成分冶炼,在1300~1650℃浇铸成板坯,将板坯在1000~1200℃热轧成厚度为0.8~1.5mm的热轧板。将热轧板常化处理,在150~450℃温轧至0.3~0.6mm,在室温条件下冷轧至0.1~0.3mm,在700~1200℃保温1~16h,随炉冷却,即得取向高硅钢薄带。所述常化处理的温度为900~1100℃,保温3~15min,冷却方式为水淬。本发明具有工艺简单和流程短的特点;所制备的取向高硅钢薄带铁损低、磁感高。
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公开(公告)号:CN105699232A
公开(公告)日:2016-06-22
申请号:CN201610164170.2
申请日:2016-03-22
Applicant: 武汉科技大学
IPC: G01N3/56
CPC classification number: G01N3/56
Abstract: 本发明公开了一种可控磨损载荷的试验装置,包括:工作台、电机、磨盘、试样和可控磨损载荷实验装置;所述磨盘连接在所述电机上,所述电机固定在所述工作台上,所述试样一端置入所述可控磨损载荷实验装置上,另一端与所述磨盘接触,所述可控磨损载荷实验装置固定在工作台上;可控载荷加载范围为0~500N;磨损刻度磨损范围0~20mm,精度可达0.01mm。本发明结构简单,维修方便,并容易实现通过调换加载载荷弹簧来满足不同载荷下的测试。
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公开(公告)号:CN104959383A
公开(公告)日:2015-10-07
申请号:CN201510416008.0
申请日:2015-07-16
Applicant: 武汉科技大学
IPC: B21B1/40
CPC classification number: B21B1/40
Abstract: 本发明具体涉及一种微米级钽箔带的轧制方法。其技术方案是:在室温条件下,将宽度为120~160mm、厚度为0.1~0.2mm和钽含量大于99.95%的待轧制的钽带采用三道次工艺进行轧制:第一道次轧制后的钽带厚度为0.025~0.04mm,第二道次轧制后的钽带厚度为0.01~0.024mm,最终轧制后的钽带宽度为120~160mm和厚度为0.001~0.009mm的微米级钽箔带。本发明仅采用三道次进行轧制,工艺较简单、生产效率高和能耗低;所轧制的微米级钽箔带表面光亮、无裂纹、无起皮、无折叠、无明显氧化和无杂质压入的缺陷,表面质量好,能提高后续深加工的质量。
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公开(公告)号:CN103266215A
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN201310212248.X
申请日:2013-05-31
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明涉及一种基于合金化的高硅钢薄带及其制备方法。其技术方案是:高硅钢薄带的硅含量为5.5~7.0wt%,铜含量为0.05~2.5wt%,其余为铁及不可避免的杂质。制备方法是:先按所述高硅钢薄带的化学组分,以工业纯铁、商业用硅和纯铜为原料配料;再采用中频真空感应炉熔炼原料,在1300℃~1650℃条件下浇铸成铸坯;将铸坯在750℃~1250℃条件下锻造成厚度为10~20mm的板坯;然后将板坯在700℃~1250℃条件下热轧成厚度为0.6~0.8mm的薄带;最后将薄带在150℃~750℃条件下温轧至0.2~0.3mm。本发明具有成本低、工艺简单和能利用现有设备的特点,所制备的基于合金化的高硅钢薄带的脆性改善明显,塑性提高显著,板形良好,磁性能优良。
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公开(公告)号:CN109174995B
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201810915048.3
申请日:2018-08-13
Applicant: 武汉科技大学
IPC: B21C37/02
Abstract: 本发明涉及一种铜‑纳米碳化硅‑铝三明治结构复合材料及其制备方法。其技术方案的步骤依次是:纳米碳化硅粉末的预处理;待加工铜材和铝材的表面毛化处理;铜‑纳米碳化硅‑铝的三明治结构组装;铜‑纳米碳化硅‑铝三明治结构材料复合轧制;铜‑纳米碳化硅‑铝三明治结构轧制材料稳定化处理;制得铜‑纳米碳化硅‑铝三明治结构复合材料。本发明具有工艺简单、生产周期短和制备成本低的特点,所制制品强度大、热膨胀系数低、导热性高、耐腐蚀性能优良、表面机械啮合水平高、塑性变形能力强和结合强度好。
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公开(公告)号:CN104438325B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201410523589.3
申请日:2014-10-08
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明涉及一种极薄硅钢片的轧制方法。其技术方案是:采用16辊轧机将宽度为130~160mm和厚度为0.3mm的硅钢片按四道次轧制,第一道次到第四道次轧制的力学参数依次是:左张力为1.665~1.865KN、1.175~1.375KN、0.783~0.983KN和0.586~0.786KN,右张力为2.156~2.356KN、1.665~1.865KN、1.175~1.375KN和0.979~1.179KN,轧制力为293.920~303.920KN、293.920~303.920KN、293.920~303.920KN和293.920~303.920KN,第四道次轧制后的硅钢片厚度为0.020~0.030mm。本发明操作简单,所轧制的极薄硅钢片的磁性能好和铁损低。
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公开(公告)号:CN103266215B
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201310212248.X
申请日:2013-05-31
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明涉及一种基于合金化的高硅钢薄带及其制备方法。其技术方案是:高硅钢薄带的硅含量为5.5~7.0wt%,铜含量为0.05~2.5wt%,其余为铁及不可避免的杂质。制备方法是:先按所述高硅钢薄带的化学组分,以工业纯铁、商业用硅和纯铜为原料配料;再采用中频真空感应炉熔炼原料,在1300℃~1650℃条件下浇铸成铸坯;将铸坯在750℃~1250℃条件下锻造成厚度为10~20mm的板坯;然后将板坯在700℃~1250℃条件下热轧成厚度为0.6~0.8mm的薄带;最后将薄带在150℃~750℃条件下温轧至0.2~0.3mm。本发明具有成本低、工艺简单和能利用现有设备的特点,所制备的基于合金化的高硅钢薄带的脆性改善明显,塑性提高显著,板形良好,磁性能优良。
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公开(公告)号:CN101462124B
公开(公告)日:2011-06-15
申请号:CN200910060457.0
申请日:2009-01-08
Applicant: 武汉科技大学
Abstract: 本发明具体涉及一种用于轧钢生产的板凸度可在线调整的轧辊。其技术方案是:在上轧辊[2]辊身两端的端面分别对称地各挖一同心的环形空腔[3、10],在下轧辊[6]辊身两端的端面亦分别对称地各挖一同心的环形空腔[5、9];四个环形空腔[3、10、5、9]的形状相同,每个环形空腔[3、10、5、9]内均分别设置一形状相同的环形滑块[1、11、7、8]。本发明在轧制时,由于上、下轧辊[2、6]辊身两边的辊面间距得到了增大,避免了轧件4边部被减薄的现象,大大减小了板凸度,提高了所轧产品的尺寸精度;尤其是通过轴向调整环形滑块[1、11、7、8]在环形空腔内[3、10、5、9]的位置,则可调整轧件边部的厚度,实现了板凸度的在线调整和改善。
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