一种低开启电压的氮化镓二极管及制造方法

    公开(公告)号:CN117976728A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410187954.1

    申请日:2024-02-20

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明公开了一种低开启电压的氮化镓二极管及制造方法,属于半导体技术领域。所述的氮化镓二极管从下至上依次设置衬底、GaN缓冲层、GaN外延层、AlGaN外延层,AlGaN外延层设有凹槽结构,AlGaN外延层上放并列设有第一阳极、第二阳极、阴极,与阴极之间的接触方式为欧姆接触,凹槽结构上方设有阳极2,所述AlGaN外延层与阳极1和阳极2之间的接触方式分别为肖特基接触1和肖特基接触2。本发明使用凹槽结构的深度调控器件的开启电压,通过采用不同的肖特基接触功函数实现阈值电压和反向漏电的调节,从而实现低开启电压和低反向漏电的氮化镓二极管。

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