除静电吹扫装置、防护罩及其在光伏电池生产中的应用

    公开(公告)号:CN118983373B

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202411084744.6

    申请日:2024-08-08

    Inventor: 刘强 高惠 刘若玙

    Abstract: 本发明公开了除静电吹扫装置、防护罩及其在光伏电池生产中的应用,涉及光伏技术领域,包括:所述除尘室上安装风扇,通过所述风扇将外部气体吸入;所述过滤装置安装于所述除尘室底部,用于过滤所述风扇吸入的气体;所述自清洁收集机构设于所述过滤装置上对所述过滤装置表面附着物处理;所述除静电机构安装于所述过滤装置下方,用于产生正负离子通过洁净气体吹扫中和表面静电电荷。通过过滤装置配合除静电机构能够高效的起到除尘除静电效果,并且设置风压传感器实时监测除尘室内的气压,实现过滤装置堵塞情况进行判断,堵塞时启动自清洁收集机构对过滤装置上的杂质进行收集,定期对过滤盒进行更换清理即可实现了除静电吹扫装置的不停机运行,保障电池片品质。

    一种太阳能电池工厂热排尾气热量回收装置及工艺

    公开(公告)号:CN118129504B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410259010.0

    申请日:2024-03-07

    Inventor: 高惠 潘辉 刘梅

    Abstract: 本发明提供了一种太阳能电池工厂热排尾气热量回收装置及工艺,包括热量回收组件,所述热量回收组件包括固定外箱、尾气排出管、出水管、进水管、尾气进管、两个流速传感器、安装座、丝网过滤器、橡胶密封垫和两个通槽;所述出水管固定连接于换热铜管的一端。本发明热量回收组件将热排尾气的热量进行有效的回收,减少热量排放,能量转移节约能耗,当热风进入热量回收组件时,热量转移至换热铜管内的水中,通设置多个压力传感器,可以对热量回收组件的运行状态进行监控,通过对密封板进行拆卸,可以实现对丝网过滤器的快速拆装,而在检修时,通过检修组件切换尾气的流动路径,方便对热量回收组件进行检修。

    除静电吹扫装置、防护罩及其在光伏电池生产中的应用

    公开(公告)号:CN118983373A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411084744.6

    申请日:2024-08-08

    Inventor: 刘强 高惠 刘若玙

    Abstract: 本发明公开了除静电吹扫装置、防护罩及其在光伏电池生产中的应用,涉及光伏技术领域,包括:所述除尘室上安装风扇,通过所述风扇将外部气体吸入;所述过滤装置安装于所述除尘室底部,用于过滤所述风扇吸入的气体;所述自清洁收集机构设于所述过滤装置上对所述过滤装置表面附着物处理;所述除静电机构安装于所述过滤装置下方,用于产生正负离子通过洁净气体吹扫中和表面静电电荷。通过过滤装置配合除静电机构能够高效的起到除尘除静电效果,并且设置风压传感器实时监测除尘室内的气压,实现过滤装置堵塞情况进行判断,堵塞时启动自清洁收集机构对过滤装置上的杂质进行收集,定期对过滤盒进行更换清理即可实现了除静电吹扫装置的不停机运行,保障电池片品质。

    一种太阳能电池工厂热排尾气热量回收装置及工艺

    公开(公告)号:CN118129504A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410259010.0

    申请日:2024-03-07

    Inventor: 高惠 潘辉 刘梅

    Abstract: 本发明提供了一种太阳能电池工厂热排尾气热量回收装置及工艺,包括热量回收组件,所述热量回收组件包括固定外箱、尾气排出管、出水管、进水管、尾气进管、两个流速传感器、安装座、丝网过滤器、橡胶密封垫和两个通槽;所述出水管固定连接于换热铜管的一端。本发明热量回收组件将热排尾气的热量进行有效的回收,减少热量排放,能量转移节约能耗,当热风进入热量回收组件时,热量转移至换热铜管内的水中,通设置多个压力传感器,可以对热量回收组件的运行状态进行监控,通过对密封板进行拆卸,可以实现对丝网过滤器的快速拆装,而在检修时,通过检修组件切换尾气的流动路径,方便对热量回收组件进行检修。

    一种异质结电池的制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118571992A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202410700371.4

    申请日:2024-05-31

    Inventor: 高惠 刘强 王海翔

    Abstract: 本发明公开了一种异质结电池的制备方法,属于太阳能光伏电池技术领域,本发明中通过激光蚀刻图形化区域绒面平整度高,有利于非晶硅薄膜的沉积均匀性,进而提升半导体硅片在沉积非晶硅薄膜后的钝化效果,同时,激光蚀刻图形化区域平整度高,也有利于透明氧化物导电薄膜沉积的均匀性,提升该区域金属浆料与导电薄膜的接触性能,且激光蚀刻图形化区域平整度高,便于金属化浆料的附着、成型,有更好的栅线高宽比,提供更可靠的焊接性能,激光蚀刻图形化处理区域本身属于金属栅线遮光区域,对绒面无要求,因此并不会带来电池片降低光吸收的负面影响,而绒面平整化对非晶硅薄膜和透明氧化物导电薄膜的成膜均匀性、致密性都有一定的优势。

    一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法

    公开(公告)号:CN118854241A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202411345316.4

    申请日:2024-09-26

    Abstract: 本申请提供了一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法,首先获取旋转靶材厚度随使用时间变化的消耗速率,基于旋转靶材的消耗速率对电磁组件的电流进行动态调整,使得旋转靶材溅射表面磁场强度处于动态稳定状态;保证转靶材消耗的均匀性,在实际溅射过程中能够得到更均匀分布的溅射沉积膜。然后检测基片上溅射膜的均匀度,基于溅射膜的均匀度调整电磁组件与永磁组件的相对位置,从而调整磁极机构磁通量密度,进一步增加基片上溅射沉积膜的均匀性和稳定性。

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