一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置

    公开(公告)号:CN119860727A

    公开(公告)日:2025-04-22

    申请号:CN202510122003.0

    申请日:2025-01-26

    Abstract: 一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置,该检测方法如下:点光源经扩束镜拓展后经过一侧镀有半透半反膜的分光镜G1产生反射光和透射光,反射光垂直入射至平面全反射镜M1,透射光穿过与分光镜G1平行的补偿镜G2后垂直入射至平面全反射镜M2,相互垂直设置M1和M2将入射光反射后再次回到分光镜G1半透半反膜处,经过透射和反射后通过聚焦透镜L2在成像区F处呈现基准干涉条纹图像;将平面全反射镜M2替换为待测硅片,对平面全反射镜M1的位置进行调整,在成像区F处呈现待测硅片干涉条纹图像;通过计算机对上述图像处理并计算得到待测硅抛光片的平整度参数。该方法具有非接触性、自动化程度好等特点,具有非常可观的发展前景。

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