公开(公告)号：CN115196964B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202110402233.4

申请日：2021-04-14

Applicant: 河南科技大学

Inventor： 李继文 ,  雷金坤 ,  李召阳 ,  刘伟 ,  赵清 ,  魏世忠 ,  徐流杰 ,  张国赏 ,  潘昆明

IPC: C04B35/495 ,  C04B35/622

Abstract: 本发明属于磁控溅射用靶材的制备领域，具体涉及一种含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法。该含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法包括以下步骤：1)以三氧化钼粉、铝粉、钼酸钠粉为原料，经球磨混合，得到混合粉末；混合粉末中，钠原子占钼、氧、钠、铝总原子比为3～9％，铝原子占钼、氧、钠、铝总原子比为1～3％；2)将混合粉末在真空条件下进行放电等离子烧结。本发明的含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法，采用氧化钼和钼酸钠为原料，铝作粘接剂，通过放电等离子烧结炉(SPS)实施烧结制备工艺，降低烧结温度，降低气体含量，提高钠元素收得率，提高靶材致密度和均匀性，制备出均匀、高致密、高钠含量的含钼钠陶瓷靶材。

公开(公告)号：CN115196964A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202110402233.4

申请日：2021-04-14

Applicant: 河南科技大学

Inventor： 李继文 ,  雷金坤 ,  李召阳 ,  刘伟 ,  赵清 ,  魏世忠 ,  徐流杰 ,  张国赏 ,  潘昆明

IPC: C04B35/495 ,  C04B35/622

Abstract: 本发明属于磁控溅射用靶材的制备领域，具体涉及一种含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法。该含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法包括以下步骤：1)以三氧化钼粉、铝粉、钼酸钠粉为原料，经球磨混合，得到混合粉末；混合粉末中，钠原子占钼、氧、钠、铝总原子比为3～9％，铝原子占钼、氧、钠、铝总原子比为1～3％；2)将混合粉末在真空条件下进行放电等离子烧结。本发明的含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法，采用氧化钼和钼酸钠为原料，铝作粘接剂，通过放电等离子烧结炉(SPS)实施烧结制备工艺，降低烧结温度，降低气体含量，提高钠元素收得率，提高靶材致密度和均匀性，制备出均匀、高致密、高钠含量的含钼钠陶瓷靶材。