具有去边缘部分的功能层的层压窗玻璃

    公开(公告)号:CN109153233B

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201780033702.1

    申请日:2017-05-30

    Abstract: 本发明涉及:‑包含第一玻璃片材和第二玻璃片材的层压窗玻璃,所述第一玻璃片材和第二玻璃片材通过层间粘合性层彼此粘合,其特征在于,朝向第二玻璃片材的第一玻璃片材的面包含外周不透明搪瓷条带和去除边界的功能层,功能层的边缘覆盖外周搪瓷条带,同时完全位于条带的表面内,并且第二玻璃片材的厚度严格小于1.4mm;‑用于制造这种层压窗玻璃的两种方法;和‑这种层压窗玻璃的应用,其用于运输交通车辆,建筑物,内部陈设或街道设施,特别作为机动车挡风玻璃。

    具有去除边界的功能层的层压窗玻璃

    公开(公告)号:CN109153233A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780033702.1

    申请日:2017-05-30

    Inventor: A.于尼亚尔

    Abstract: 本发明涉及:-包含第一玻璃片材和第二玻璃片材的层压窗玻璃,所述第一玻璃片材和第二玻璃片材通过层间粘合性层彼此粘合,其特征在于,朝向第二玻璃片材的第一玻璃片材的面包含外周不透明搪瓷条带和去除边界的功能层,功能层的边缘覆盖外周搪瓷条带,同时完全位于条带的表面内,并且第二玻璃片材的厚度严格小于1.4mm;-用于制造这种层压窗玻璃的两种方法;和-这种层压窗玻璃的应用,其用于运输交通车辆,建筑物,内部陈设或街道设施,特别作为机动车挡风玻璃。

    疏水窗玻璃
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104024176B

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201280055822.9

    申请日:2012-11-14

    Abstract: 本发明涉及用于制备疏水窗玻璃的方法,其包括下列连续步骤:(a)通过在由无机玻璃制成的基材的至少一部分表面上的化学气相沉积(CVD),在600℃至680℃的温度下,通过使所述表面与包含乙烯(C2H4)、硅烷(SiH4)和二氧化碳(CO2)的反应性气体流接触,在所述基材的表面上形成富含碳的氧碳化硅(SiOxCy)层,其中在步骤(a)期间的乙烯/硅烷(C2H4/SiH4)体积比小于或等于3.3,(b)于在步骤(a)中沉积的氧碳化硅层上形成SiO2层,或(b’)形成贫含碳的氧碳化硅层,该层具有低于0.2的平均C/Si比率,(c)在580℃至700℃的温度下使在步骤(b)或(b’)结束时获得的基材退火和/或成型,(d)通过等离子体处理或酸或碱的化学处理使在步骤(b)中形成的二氧化硅层或在步骤(b’)中形成的氧碳化硅层活化,和(e)通过共价键合接枝氟化疏水试剂。本发明还涉及通过这种方法可获得的疏水窗玻璃,优选是风挡。

    疏水窗玻璃
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104024176A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201280055822.9

    申请日:2012-11-14

    Abstract: 本发明涉及用于制备疏水窗玻璃的方法,其包括下列连续步骤:(a)通过在由无机玻璃制成的基材的至少一部分表面上的化学气相沉积(CVD),在600℃至680℃的温度下,通过使所述表面与包含乙烯(C2H4)、硅烷(SiH4)和二氧化碳(CO2)的反应性气体流接触,在所述基材的表面上形成富含碳的氧碳化硅(SiOxCy)层,其中在步骤(a)期间的乙烯/硅烷(C2H4/SiH4)体积比小于或等于3.3,(b)于在步骤(a)中沉积的氧碳化硅层上形成SiO2层,或(b’)形成贫含碳的氧碳化硅层,该层具有低于0.2的平均C/Si比率,(c)在580℃至700℃的温度下使在步骤(b)或(b’)结束时获得的基材退火和/或成型,(d)通过等离子体处理或酸或碱的化学处理使在步骤(b)中形成的二氧化硅层或在步骤(b’)中形成的氧碳化硅层活化,和(e)通过共价键合接枝氟化疏水试剂。本发明还涉及通过这种方法可获得的疏水窗玻璃,优选是风挡。

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