公开(公告)号：CN112808033B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202110048102.0

申请日：2021-01-14

Applicant: 浙江大学

Inventor： 方立峰 ,  朱宝库 ,  朱明明 ,  喻文翰 ,  赵自豪 ,  崔荣璐 ,  沈宇杰 ,  邱泽霖 ,  薛云云

IPC: B01D71/68 ,  B01D67/00

Abstract: 本发明公开了一种基于荷电调控制备抗菌抗污染过滤膜的方法。所述的制备方法主要包括以下具体步骤：(1)将聚合物材料、荷负电两亲高分子和致孔剂溶于溶剂，得到均一稳定的制膜液；(2)将步骤(1)得到的制膜液经非溶剂诱导相分离，形成荷负电微孔底膜；(3)将步骤(2)得到的荷负电微孔底膜置于荷正电单体溶液中，并置于紫外灯下辐照，得到抗菌抗污染过滤膜。通过调控接枝条件，当过滤膜表面zeta电位在0.5～15.0mV时，过滤膜表现优异的抗菌抗污染性能。本方法具有操作简便、效果持久、表面性质可控的手段的改性手段。

公开(公告)号：CN112808033A

公开(公告)日：2021-05-18

申请号：CN202110048102.0

申请日：2021-01-14

Applicant: 浙江大学

Inventor： 方立峰 ,  朱宝库 ,  朱明明 ,  喻文翰 ,  赵自豪 ,  崔荣璐 ,  沈宇杰 ,  邱泽霖 ,  薛云云

IPC: B01D71/68 ,  B01D67/00

Abstract: 本发明公开了一种基于荷电调控制备抗菌抗污染过滤膜的方法。所述的制备方法主要包括以下具体步骤：(1)将聚合物材料、荷负电两亲高分子和致孔剂溶于溶剂，得到均一稳定的制膜液；(2)将步骤(1)得到的制膜液经非溶剂诱导相分离，形成荷负电微孔底膜；(3)将步骤(2)得到的荷负电微孔底膜置于荷正电单体溶液中，并置于紫外灯下辐照，得到抗菌抗污染过滤膜。通过调控接枝条件，当过滤膜表面zeta电位在0.5～15.0mV时，过滤膜表现优异的抗菌抗污染性能。本方法具有操作简便、效果持久、表面性质可控的手段的改性手段。