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公开(公告)号：CN115398210A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180026082.5
申请日：2021-01-21
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G01N21/64
Abstract: 在光学测定装置中，在第1处理中，对参考构件照射激发光，将包含来自参考构件的激发光的散射光的校准处理用光作为检测光予以检测，将与校准处理用光对应的校准信号作为检测信号，实施用于自第2处理中的检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理。另外，在光学测定装置中，在第2处理中，对试样照射激发光，将包含自试样产生的荧光、及来自被照射了激发光的试样的散射光的测定对象光作为检测光予以检测，自测定信号去除与第1处理中的校准处理的实施结果中的散射光对应的信号成分。
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公开(公告)号：CN115380204A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202180026081.0
申请日：2021-01-21
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G01N21/64
Abstract: 光学测定装置具备照射光学系统、检测光学系统、及消除电路，在荧光检测处理中，以试样为照射对象，对试样照射照射光，将包含自被照射了照射光的试样产生的荧光、及来自被照射了照射光的试样的散射光的测定对象光作为检测光予以检测，考虑预先处理中的校准处理的实施结果，自与测定对象光对应的测定信号去除与散射光对应的信号成分；在预先处理中，基于信号量大于测定信号中的与散射光对应的信号的校准信号，实施用于自测定信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN109154570A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780030146.2
申请日：2017-02-23
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G01N21/64
Abstract: 基准体(1)包括：支撑体(10)，其设置有第1光通过部(18)及第2光通过部(19)、以及第1收纳空间(14)及第2收纳空间(15)；第1荧光体(20)，其收纳于第1收纳空间(14)，在第1波长区域的第1激发光经由第1光通过部(18)被照射时发出第2波长区域的第1荧光；第2荧光体(30)，其收纳于第2收纳空间(15)，在第1波长区域的第2激发光经由第2光通过部(19)被照射时发出第2波长区域的第2荧光；以及遮光部(13)，其配置于第1收纳空间(14)与第2收纳空间(15)之间。在入射至第1光通过部(18)的第1激发光的光量与入射至第2光通过部(19)的第2激发光的光量相互相等的情况下，自第1光通过部(18)出射的第1荧光的光量与自第2光通过部(19)出射的第2荧光的光量互不相同。
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公开(公告)号：CN116848396A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202180092662.4
申请日：2021-10-15
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G01N21/64
Abstract: 一种照射光学系统，是用于朝对象物照射第1光的照射光学系统，具备：光源，其包含：面发光元件，其自光出射面出射上述第1光；及透镜部，其用于提高自上述面发光元件出射的上述第1光的指向性；光整形构件，其自光入射面入射自上述光源出射的上述第1光，用于将入射的上述第1光通过光通过孔予以整形并出射；及第1透镜，其用于将自上述光整形构件出射的上述第1光的像在上述对象物成像；上述面发光元件的光出射面与上述光整形构件的光入射面的距离为上述光出射面的一方向上的大小的26倍以下。
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公开(公告)号：CN115335699A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180022995.X
申请日：2021-03-23
IPC: G01N33/483 , G01N33/543 , G01N21/27
Abstract: 光学测定装置(1)包括：测定部，其对侧流试验片(K)的检测部(16)照射测定光，并测定通过测定光的照射而从检测部(16)得到的光；和判断部(4)，其基于由测定部得到的测定值和预先设定的第一阈值的比较，判断保持于侧流试验片(K)的样本是阴性还是阳性，判断部(4)在样本向侧流试验片(K)的保持后，在测定值超过第一阈值的情况下计算测定初期的测定值与测定后期的测定值之间的差分值，在差分值超过预先设定的第二阈值的情况下判断为样本是阳性，在差分值为第二阈值以下的情况下判断为样本是阴性。
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