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公开(公告)号：CN102866499B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201210365143.3
申请日：2012-09-26
Applicant: 清华大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 非球面光学元件在传统加工阶段的目标形状优化方法，属于光学加工技术领域。本发明以非球面光学元件的光轴为x轴，以光轴与非球面交点为原点建立笛卡尔直角坐标系，以非球面光学元件的对称平面与非球面相交所得的曲线上各点的曲率圆的圆心和半径为接近球面的初始值，非球面光学元件上各点进行逐点搜索，随时调整接近球迷的球心位置和半径值，以确保接近球面满足正去除量条件。由于没有将接近球面的球心限制在回转轴上，从而可以得到比传统方法更优的接近球面，从而避免了去除过多材料所带来的制造成本上升的问题。此外，还能以最大法向偏差量取最小值为目标对接近球面进行优化，从而得到有利于消减加工痕迹和中频面形误差的接近球面。
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公开(公告)号：CN102756336B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201210043839.4
申请日：2012-02-23
Applicant: 清华大学
IPC: B24B55/00
Abstract: 公自转磁流变抛光去除廓形的优化调节方法，属于光学曲面精密加工技术领域。为优化现有公自转磁流变抛光技术中的公转去除廓形，使之满足从边缘处至回转中心处去除量单调增大的条件，本发明在现有装置基座板上，加装包含滑板、丝杠、丝杠支承座等的调节装置，通过驱动丝杠转动带动滑板相对基座板沿x轴直线移动，安装于滑板上的抛光轮也同步地相对基座板沿x轴直线移动，从而定量可控地调节抛光轮自转轴线相对于抛光轮公转轴线的偏心量e，使得调节后自转去除廓形的去除量最大处与公转轴线的距离e’在±1.5mm以内，经过优化调节后的公转去除廓形更有利于修正工件面形误差。
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公开(公告)号：CN102866499A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210365143.3
申请日：2012-09-26
Applicant: 清华大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 非球面光学元件在传统加工阶段的目标形状优化方法，属于光学加工技术领域。本发明以非球面光学元件的光轴为x轴，以光轴与非球面交点为原点建立笛卡尔直角坐标系，以非球面光学元件的对称平面与非球面相交所得的曲线上各点的曲率圆的圆心和半径为接近球面的初始值，非球面光学元件上各点进行逐点搜索，随时调整接近球迷的球心位置和半径值，以确保接近球面满足正去除量条件。由于没有将接近球面的球心限制在回转轴上，从而可以得到比传统方法更优的接近球面，从而避免了去除过多材料所带来的制造成本上升的问题。此外，还能以最大法向偏差量取最小值为目标对接近球面进行优化，从而得到有利于消减加工痕迹和中频面形误差的接近球面。
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公开(公告)号：CN102756336A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210043839.4
申请日：2012-02-23
Applicant: 清华大学
IPC: B24B55/00
Abstract: 公自转磁流变抛光去除廓形的优化调节方法，属于光学曲面精密加工技术领域。为优化现有公自转磁流变抛光技术中的公转去除廓形，使之满足从边缘处至回转中心处去除量单调增大的条件，本发明在现有装置基座板上，加装包含滑板、丝杠、丝杠支承座等的调节装置，通过驱动丝杠转动带动滑板相对基座板沿x轴直线移动，安装于滑板上的抛光轮也同步地相对基座板沿x轴直线移动，从而定量可控地调节抛光轮自转轴线相对于抛光轮公转轴线的偏心量e，使得调节后自转去除廓形的去除量最大处与公转轴线的距离e’在±1.5mm以内，经过优化调节后的公转去除廓形更有利于修正工件面形误差。
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公开(公告)号：CN102229067A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN201110124410.3
申请日：2011-05-13
Applicant: 清华大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1486821A
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：CN03153996.3
申请日：2003-08-22
Applicant: 清华大学
IPC: B24D17/00
Abstract: 电磁方式磁流变抛光头，属于精密曲面加工工具领域。为了解决现有磁流变抛光中的加工参数不灵活，抛光去除量不容易控制的缺点，本发明公开了一种电磁方式磁流变抛光头，包括电磁轮架、隔磁环、电磁线圈、导磁盘和轮芯，其特征在于：所述抛光头为圆盘形，所述隔磁环两侧有台阶，通过过盈配合安装在电磁轮架和导磁盘的外缘；所述电磁轮架和导磁盘与轮芯通过过盈配合安装在一起；所述的电磁线圈为盘状线圈，位于电磁轮架和导磁盘形成的空腔之中；所述轮芯和外接自转轴之间通过键联接。本发明解决了现有技术中的问题，能够提供更灵活的抛光加工需要，并能够实现对抛光加工的有效控制。
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公开(公告)号：CN101791992A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200910244249.6
申请日：2009-12-30
Applicant: 清华大学
IPC: B62D3/02
Abstract: 一种汽车转向系统，包括转向操纵机构、转向器以及左右两个转向传动机构。转向器包括一对锥齿轮和一对非圆齿轮，通过非圆齿轮的啮合，实现左右前轮转角的合理分配，使得在理想情况下汽车的转向满足阿克曼条件。转向传动机构包括一对小锥齿轮和RF+DOJ万向节总成，通过RF+DOJ万向节总成在车轮上下跳动时的自由伸缩，避免了转向传动机构与悬架导向机构的干涉。本发明在理想情况下能实现汽车的转向满足阿克曼条件，避免汽车转向时路面对汽车行驶的附加阻力和轮胎过快磨损；并能避免转向传动机构与悬架导向装置之间的运动干涉，使得车轮上下跳动时不会引起额外的转向轮转角补偿或方向盘转角补偿。
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公开(公告)号：CN101352826A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810223239.X
申请日：2008-09-28
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于精密光学抛光加工技术领域，特别涉及一种光学元件内凹面抛光方法及装置。待加工工件内凹面下方固定一个和待加工内凹面形状吻合的带有槽路的芯模，工件绕自身回转轴旋转并保持与芯模一个微小间隙，并通过外磁极工具头及内磁极激励线圈对加工区域施加磁场，带有抛光磨料的磁流变液沿槽路流经加工区域时在磁场作用下形成柔性抛光头吸附于内凹面并产生抛光作用。本发明可以实现小曲率半径或具有深腔结构的共形光学元件及其它回转对称高陡度非球面的内凹面抛光，并可以采用计算机控制抛光去除分布，具备抛光面形控制能力，兼有高精度高表面质量的优点。
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