公开(公告)号：CN108249389A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201611245364.1

申请日：2016-12-29

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨兴 ,  章城 ,  朱华敏

IPC: B81C1/00 ,  C23C14/04 ,  C23F1/02

CPC classification number: B81C1/00396 ,  B81C1/00373 ,  B81C1/00404 ,  B81C2201/0198 ,  C23C14/042 ,  C23F1/02

Abstract: 本发明公开了一种利用糖作掩模的微纳加工方法，其包括步骤：S10、提供熔融状态的糖或糖溶液；S20、将熔融状态的糖或糖溶液施加到待加工的样品表面，形成掩模图案；S30、对形成掩模图案后的样品进行微纳加工；S40、将微纳加工后的样品放入糖溶性液体中，以去除样品表面的糖。本发明的微纳加工方法能够提高微纳加工的精度和效率，降低成本，同时大大减轻对环境和操作人员人身健康的不利影响。

公开(公告)号：CN110091648A

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201810081419.2

申请日：2018-01-29

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨兴 ,  朱华敏 ,  罗昆 ,  章城

IPC: B43K5/00 ,  B43K7/00 ,  B43L13/00

Abstract: 本发明公开了一种掩模图案绘制装置及绘制方法。所述掩模图案绘制装置用于在基底上绘制掩模图案，其包括绘制工具和载置台，其中，所述载置台用于放置所述基底，所述绘制工具包括绘制头和储液部，所述储液部用于存储掩模图案绘制液，所述绘制头与所述储液部相通，当所述绘制头与所述基底接触时，所述储液部中的掩模图案绘制液能够经所述绘制头转移到所述基底上。本发明的掩模图案绘制装置能够以较低的成本和简单的工艺形成掩模图案，通过绘制工具的直接绘制，可以形成任何需要的图案，具有适用范围广、效率高、掩模材料浪费率低等优点。

公开(公告)号：CN208646387U

公开(公告)日：2019-03-26

申请号：CN201820141799.X

申请日：2018-01-29

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨兴 ,  朱华敏 ,  罗昆 ,  章城

IPC: B43K5/00 ,  B43K7/00 ,  B43L13/00

Abstract: 本实用新型公开了一种掩模图案绘制装置。所述掩模图案绘制装置用于在基底上绘制掩模图案，其包括绘制工具和载置台，其中，所述载置台用于放置所述基底，所述绘制工具包括绘制头和储液部，所述储液部用于存储掩模图案绘制液，所述绘制头与所述储液部相通，当所述绘制头与所述基底接触时，所述储液部中的掩模图案绘制液能够经所述绘制头转移到所述基底上。本实用新型的掩模图案绘制装置能够以较低的成本和简单的工艺形成掩模图案，通过绘制工具的直接绘制，可以形成任何需要的图案，具有适用范围广、效率高、掩模材料浪费率低等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利