公开(公告)号：CN104058434B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201410182895.5

申请日：2014-04-30

Applicant: 清华大学 ,  德清熠环境科技(北京)有限公司

Inventor： 王毅 ,  文洪涛 ,  雷雪飞 ,  刘灵欧 ,  孙应龙 ,  袁超 ,  李磊

IPC: C01F7/26

Abstract: 本发明提供了生产氧化铝的方法，其包括：将含铝的矿物原料和焙烧添加剂混合，进行焙烧，以便获得焙烧熟料，其中，焙烧添加剂为酸式硫酸盐，或者焙烧添加剂为硫酸盐和硫酸的混合物，其中硫酸盐和硫酸的摩尔比为1：1；将焙烧熟料用水浸出，以便获得浸出产物；将浸出产物进行固液分离，以便获得浸出溶液和滤渣；将浸出溶液浓缩后静置结晶，以便获得铝盐粗产品；将铝盐粗产品溶于水中，并利用氨水将所得到溶液的pH调节至8.5，之后进行过滤，以便获得氧化铝。利用该方法，能够快速有效地生产氧化铝，且该方法焙烧温度较低、节约能源，对矿物原料中氧化铝的含量无特别要求，获得的产品纯度高，尾渣量少，能够有效避免二次污染。

公开(公告)号：CN104058434A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201410182895.5

申请日：2014-04-30

Applicant: 清华大学 ,  德清熠环境科技(北京)有限公司

Inventor： 王毅 ,  文洪涛 ,  雷雪飞 ,  刘灵欧 ,  孙应龙 ,  袁超 ,  李磊

IPC: C01F7/26

Abstract: 本发明提供了生产氧化铝的方法，其包括：将含铝的矿物原料和焙烧添加剂混合，进行焙烧，以便获得焙烧熟料，其中，焙烧添加剂为酸式硫酸盐，或者焙烧添加剂为硫酸盐和硫酸的混合物，其中硫酸盐和硫酸的摩尔比为1∶1；将焙烧熟料用水浸出，以便获得浸出产物；将浸出产物进行固液分离，以便获得浸出溶液和滤渣；将浸出溶液浓缩后静置结晶，以便获得铝盐粗产品；将铝盐粗产品溶于水中，并利用氨水将所得到溶液的pH调节至8.5，之后进行过滤，以便获得氧化铝。利用该方法，能够快速有效地生产氧化铝，且该方法焙烧温度较低、节约能源，对矿物原料中氧化铝的含量无特别要求，获得的产品纯度高，尾渣量少，能够有效避免二次污染。

公开(公告)号：CN104925843A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510300413.6

申请日：2015-06-03

Applicant: 清华大学

Inventor： 王毅 ,  李磊 ,  祁光霞 ,  袁超 ,  雷雪飞 ,  徐辉 ,  孙应龙 ,  尹丽丹

IPC: C01F7/02

Abstract: 本发明公开了一种利用复合铝盐制备薄片状α-Al2O3珠光颜料基材的方法。本方法选择复合铝盐(硫酸铝钾或硫酸铝钠)作为铝源，复合铝盐经水解原位生成所需熔盐，在添加薄片状α-Al2O3晶种以及晶体生长调节剂(钛盐，磷酸盐)的条件下，反应生成的凝胶经干燥、850-1100℃下煅烧即可制备得到性质优良的薄片状α-Al2O3，方法流程简单。所得薄片状氧化铝(平均厚度0.2-0.5μm，平均粒径11-15μm，径厚比>20，无团聚和孪晶)，可用作珠光颜料的基材。

公开(公告)号：CN104934089A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510204143.9

申请日：2015-04-27

Applicant: 大唐国际发电股份有限公司高铝煤炭资源开发利用研发中心 ,  清华大学

Inventor： 孙俊民 ,  王毅 ,  伍泽广 ,  祁光霞 ,  雷雪飞

IPC: G21F9/10

CPC classification number: G21F9/10

Abstract: 本发明提供一种放射性废水处理方法。本发明的放射性废水处理方法是向pH值≥2的放射性废水中加入活性硅酸钙，然后固液分离，得到净化水和放射性硅酸钙；其中，所述活性硅酸钙的粒径＜50μm，孔径为2～50nm，比表面积为400～700m2/g。本发明的放射性废水处理方法采用活性硅酸钙作为处理剂，其在处理放射性废水时不易受废水水质以及pH值影响，在较小的添加量下即可对放射性废水中的放射性元素以及其它金属离子进行有效去除，此外对处理后所形成的放射性硅酸钙的固定化方法简单，并且固定化效果良好。

公开(公告)号：CN103708648B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201310732911.9

申请日：2013-12-26

Applicant: 清华大学

Inventor： 祁光霞 ,  王毅 ,  雷雪飞 ,  袁超 ,  孙应龙 ,  李磊

IPC: C02F9/04 ,  C02F103/30

Abstract: 本发明公开了属于环境保护的工业废水处理及回用技术领域的还原-Fenton氧化耦合处理偶氮染料废水的方法。在经预调pH至酸性的偶氮染料废水中加入低剂量经活化的还原剂在20℃-100℃将废水中的偶氮键还原为易被氧化降解的肼键，再通过Fenton试剂氧化降解被还原的染料大分子，反应完成后，调节出水pH至中性，通过沉降进一步除去水中的有机物；沉降后出水可以通过活性炭吸附有机小分子，以进一步保证出水水质。该方法克服了现有的Fenton氧化耦联工艺需额外配备特殊装置和设备、工艺流程复杂、处理费用高等问题，且该工艺流程简单，10h内实现偶氮印染废水色度去除率100%，COD去除率>90%。

公开(公告)号：CN103708648A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310732911.9

申请日：2013-12-26

Applicant: 清华大学

Inventor： 祁光霞 ,  王毅 ,  雷雪飞 ,  袁超 ,  孙应龙 ,  李磊

IPC: C02F9/04 ,  C02F103/30

Abstract: 本发明公开了属于环境保护的工业废水处理及回用技术领域的还原-Fenton氧化耦合处理偶氮染料废水的方法。在经预调pH至酸性的偶氮染料废水中加入低剂量经活化的还原剂在20℃-100℃将废水中的偶氮键还原为易被氧化降解的肼键，再通过Fenton试剂氧化降解被还原的染料大分子，反应完成后，调节出水pH至中性，通过沉降进一步除去水中的有机物；沉降后出水可以通过活性炭吸附有机小分子，以进一步保证出水水质。该方法克服了现有的Fenton氧化耦联工艺需额外配备特殊装置和设备、工艺流程复杂、处理费用高等问题，且该工艺流程简单，10h内实现偶氮印染废水色度去除率100%，COD去除率>90%。