一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114619609B

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202210156990.2

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 本发明公开了一种高透光低雾度的乙烯‑四氟乙烯共聚物膜的制备方法,其特征在于:其通过流延膜挤出工艺进行制备,其工艺控制参数为:挤出机的挤出速率6Hz,挤出机的料筒的温度为250‑330℃,成型辊运行速度4‑7m/min,牵引运行速度4‑10m/min,拉伸比:10‑35;平衡比:1.05‑1.10,电磁成型辊表面采用镀硬铬、特氟龙、陶瓷或硅橡胶设置,电磁成型辊的辊筒表面硬度:HRC>=62;电磁成型辊直径265‑290mm×600‑800mm;电磁成型辊温度为80‑150℃。本发明的优点是在提高ETFE薄膜的透明度同时保证了良好的平整性、优异的耐高温性、尺寸稳定性、介电特性、阻燃性以及化学稳定性。该膜广泛应用于新能源、半导体电子、薄膜建筑、电子电气、航天航空等领域。

    一种ETFE薄膜的挤压流延成型装置及其制备方法

    公开(公告)号:CN114701103A

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202210157003.0

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 本发明公开了一种ETFE薄膜的挤压流延成型装置及其制备方法,该制备方法运行在ETFE薄膜的挤压流延成型装置,其制备的参数为:挤出机挤出频率为3‑8Hz,一区加热280‑295℃,二区加热285‑300℃,三区加热300‑310℃,四区加热300‑320℃;拉伸比:5‑30;平衡比:1.05‑1.10,成型的薄膜在与电磁成型辊接触的过程中,1#电磁成型辊的表面温度高于薄膜的共聚物的结晶温度且低于薄膜共聚物的熔点,然后通过2#电磁成型辊、3#电磁成型辊和4#电磁成型辊后将薄膜共聚物从电磁成型辊上剥离。本发明该方案所制备的ETFE薄膜具有优异的光学和力学性能,广泛应用于太阳能电池背光板薄膜,半导体封装,建筑膜等具有良好的前景。

    一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114619609A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202210156990.2

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 本发明公开了一种高透光低雾度的乙烯‑四氟乙烯共聚物膜的制备方法,其特征在于:其通过流延膜挤出工艺进行制备,其工艺控制参数为:挤出机的挤出速率6Hz,挤出机的料筒的温度为250‑330℃,成型辊运行速度4‑7m/min,牵引运行速度4‑10m/min,拉伸比:10‑35;平衡比:1.05‑1.10,电磁成型辊表面采用镀硬铬、特氟龙、陶瓷或硅橡胶设置,电磁成型辊的辊筒表面硬度:HRC>=62;电磁成型辊直径265‑290mm×600‑800mm;电磁成型辊温度为80‑150℃。本发明的优点是在提高ETFE薄膜的透明度同时保证了良好的平整性、优异的耐高温性、尺寸稳定性、介电特性、阻燃性以及化学稳定性。该膜广泛应用于新能源、半导体电子、薄膜建筑、电子电气、航天航空等领域。

Patent Agency Ranking