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公开(公告)号：CN117148814B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202310918526.7
申请日：2023-07-25
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
IPC: G05B23/02
Abstract: 本发明实施例提供的真空镀膜设备壁板清洗控制系统的异常报警方法及系统，在确定出目标异常运行图像修正报告之后，可以根据目标异常运行图像修正报告中的携带的备选异常故障标签，确定目标异常运行图像报告的当前异常故障标签。鉴于在确定当前异常故障标签时是基于目标异常运行图像修正报告中的备选异常故障标签实现的，因而可以保障当前异常故障标签的确定精度和效率，从而准确、高效地实现目标异常运行图像报告的故障类别预测。
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公开(公告)号：CN115025521B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202210817448.7
申请日：2022-07-12
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种液晶面板刻蚀液的再生设备，包括设备主体，所述设备主体的下端设置有流道，所述流道的内侧设置有承接板，所述承接板下端面中间位置处与流道内底面相转动配合，所述承接板的前后端与流道的内部相插装配合，所述承接板的下端面靠近前后端处与流道的内底面间设置有抖动机构，所述承接板的上端面固定连接有若干根连接杆，还提出了一种液晶面板刻蚀液的再生方法，本方案可以促进沉降物的稳定沉降，并同时协助沉降物在较为稳定的状态下进行传送，以便于后续上下液层间的分隔，也利于了后续沉降物的再生利用，有效降低了生产成本，回收液的处理也更为便捷。
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公开(公告)号：CN116843916A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310918544.5
申请日：2023-07-25
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明实施例提供的基于人工智能的板材干燥设备控制系统的优化方法及系统，应用本发明实施例，联动控制优化建议标签中包括联动控制优化观点评分，可以确保联动控制优化建议标签的丰富程度，避免联动控制优化建议标签的信息承载量过低。此外，观点标签推理数据用于表征各个可视化控制要素向量针对联动控制优化建议标签的依赖性，确保了联动控制优化建议标签的合理性和推导性，有理有据地提高了联动控制优化建议标签的说服力，这样可以通过观点标签推理数据确定联动控制优化建议标签的确定思路，确保联动控制优化建议标签的可读性和可理解性，以便高质量地实现板材干燥设备控制系统的控制优化处理。
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公开(公告)号：CN115026638A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202210853800.2
申请日：2022-07-12
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，属于下部电极维护领域，包括一双层承载件，双层承载件的上端面固定设有一清洗筒。本发明的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，具有使用效率高和更换效率高的优点，解决了在对等离子刻蚀设备的下部电极进行维护的过程中，通常需要采用清洗设备配合超纯水对下部电极进行超净清洗，而随着使用，清洗设备中的水质过滤器在使用一段时间后滤芯效果会出现失能现象，在对其更换时只能停滞设备对其进行更换，导致使用效率收到一定的影响，同时在对滤芯更换时需要通过拧下大量用于固定的螺丝，不仅繁琐，还影响对滤芯更换的效率的问题。
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公开(公告)号：CN115025521A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202210817448.7
申请日：2022-07-12
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种液晶面板刻蚀设备零备件内底板维护再生的设备，包括设备主体，所述设备主体的下端设置有流道，所述流道的内侧设置有承接板，所述承接板下端面中间位置处与流道内底面相转动配合，所述承接板的前后端与流道的内部相插装配合，所述承接板的下端面靠近前后端处与流道的内底面间设置有抖动机构，所述承接板的上端面固定连接有若干根连接杆，还提出了一种液晶面板刻蚀设备零备件内底板维护再生的方法，本方案可以促进沉降物的稳定沉降，并同时协助沉降物在较为稳定的状态下进行传送，以便于后续上下液层间的分隔，也利于了后续沉降物的再生利用，有效降低了生产成本，回收液的处理也更为便捷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119020839A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411163227.8
申请日：2024-08-23
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种腔室壁板再生处理方法，包括如下步骤：将腔室壁板的边角打磨圆滑，进行清洗处理；将清洗后的所述腔室壁板放入包含有阳极氧化溶液的处理池；对所述腔室壁板连通直流电，所述直流电的电压小于等于15V，电流1000A～1500A，处理后得到再生后的腔室壁板。本发明提供的腔室壁板再生处理方法通过将腔室壁板的边角研磨圆滑，避免了在阳极氧化过程中电流在边角集中而使得低于0.8mm的薄板烧蚀甚至报废，可以不必去除腔室壁板原先的氧化膜，直接进行阳极氧化，既提高了腔室壁板的再生修复效率，又能够大幅度减少产品的报废率。
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公开(公告)号：CN117181673A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311138202.8
申请日：2023-09-05
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种等离子刻蚀机用清洗机构，包括：底座，所述底座包括主箱体和吸盘组件；所述吸盘组件设置在主箱体靠近等离子刻蚀机腔室的一面；承载台，所述承载台上设有清洗头；所述清洗头对外喷射高速射流对等离子刻蚀机腔室的内壁完成清洗；通过清洗头的旋转完成对等离子刻蚀机腔室内部无死角的清洗覆盖；而所述底座通过吸盘组件吸附在等离子刻蚀机腔室内任意平整区域。本发明所提供的吸盘组件帮助等离子刻蚀机用清洗机构固定在等离子刻蚀机腔室内部不同的区域；通过位置变换使得清洗头对更多区域进行不同角度的冲洗，减少清洗头清洗死角。
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公开(公告)号：CN117019925A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310950975.X
申请日：2023-07-31
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种针对PECVD Upper Electrode整形的处理方法，主要依靠特殊结构的煅烧设备，在煅烧设备底部设置垫片对PECVD Upper Electrode进行支撑，并在PECVD Upper Electrode上阵列方式排布配重，在升温前期3个小时，每小时升温30～40℃，随后每个小时升温80～120℃直至795℃保温4小时，保温结束后反向降温至200℃以内，到达200℃后开启舱门进行散热；本发明通过高温煅烧的过程中所述配重对PECVD Upper Electrode的施压，使其不规则的地方会与垫片贴合，在平整度高垫片帮助下让形变后PECVD Upper Electrode会再度恢复平整，配合程序升温让PECVD Upper Electrode形变的状态被逐步进行修正。
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公开(公告)号：CN114227551B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202111604924.9
申请日：2021-12-24
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
Abstract: 本申请涉及一种自动喷砂综合清理设备，涉及喷砂设备的领域，其包括机体，所述机体设置有操作口，所述机体于所述操作口位置转动连接有防护门，所述机体与所述防护门设置有锁定组件；所述机体升降设置有照明架，所述机体设置有驱动所述照明架升降的动力件，所述照明架安装有第一照明灯，所述照明架两端均转动连接有支架，所述支架安装有第二照明灯，所述支架设置有驱动所述支架摆动的传动组件。本申请具有确保对物件充分照明的效果，提升物件喷砂工作的精准性，确保喷砂成品质量。
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公开(公告)号：CN115458383A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202210849338.9
申请日：2022-07-19
Applicant: 湖北仕上电子科技有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种LTPSG6代线干法等离子刻蚀设备UpperElectrode维护的工艺方法，工艺流程包括：化学腿膜、研磨、喷砂、清洗、干燥、真空包装，本发明所采用的维护方法具有工艺简单易于实现的优点，且具备效率高省电等优点，且采用本工艺之后确实能够极大改善维护效果，通过实践发现，所得产品性能更佳。
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