一种双三羟材料及其有色杂质去除方法

    公开(公告)号:CN119798053A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411912918.3

    申请日:2024-12-24

    Abstract: 本发明公开了一种双三羟材料及其有色杂质去除方法,属于有机化合物提纯除杂领域,所述杂质去除方法包括:将重组分与溶剂进入配制槽搅拌后加入母液以及去离子水进行配置,均匀搅拌并升温至80‑85℃,并静置30min,得到混合物料;将混合物料送入分离机中分离水相及油相,并对油相进行水洗,得到萃取后的水相产物;对萃取后的水相产物进行加热浓缩,浓缩掉水相产物40%的水分;浓缩后的水相产物进入活性炭配制槽脱色,在60℃下搅拌30分钟并加入磷酸进行水解,同时调整PH值至3.0‑3.5;将水解脱色后的浓缩液过滤、冷却结晶,制备得到双三羟材料。本发明的有色杂质去除方法流程简单、在装置上容易实现。

    一种成品TMP测定用碾碎装置

    公开(公告)号:CN221907295U

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202420236479.8

    申请日:2024-01-31

    Abstract: 本实用新型公开了一种成品TMP测定用碾碎装置,包括粉碎箱,所述粉碎箱的顶端设置有遮挡组件,所述粉碎箱的内腔中设置有用于对成品TMP进行初次粉碎的粉碎组件;所述粉碎组件的外部设置有用于粉碎组件进行清洁的清洁模块;所述清洁模块包括安装在所述粉碎箱内壁的安装座,所述安装座的内侧安装有清洁杆,所述清洁杆的外部设置有清洁刷,所述清洁刷的末端接触粉碎组件的外表面;所述粉碎箱的表面设置有清理组件,装置在使用时,粉碎组件对成品TMP进行初次粉碎,粘附在粉碎组件表面的TMP物料经清洁模块的作用与粉碎组件分离,从粉碎箱与粉碎组件间的间隙落入研磨组件内进行研磨,此结构使成品TMP的粉碎工作可以稳定高效的进行。

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