一种金属连续浇铸装置及方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115921786A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202310026580.0

    申请日:2023-01-09

    Abstract: 本发明涉及一种金属连续浇铸装置及方法,包括底座,底座设有升降机构和限位机构,升降机构与浇铸模具连接,浇铸模具的侧部设有竖向设置的长条状金属液进口,限位机构包括支座,支座顶部设有浇口杯,浇口杯伸入金属液进口,浇口杯内部的金属液流道与浇铸模具内的底部封闭的型腔连通,浇口杯底面固定有嵌入金属液进口并对金属液进口进行封堵的的封口条,采用本发明的装置克服了现有浇铸工艺所存在的缺陷。

    一种铜脱氢脱氧工艺
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113930626B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202111206722.9

    申请日:2021-10-15

    Abstract: 本发明涉及一种铜脱氢脱氧工艺,包括熔炼装置、用于铜熔炼的组件,熔炼包括如下步骤:步骤一:铜原料熔融保温处理将铜原料投入所述熔炼装置中进行熔炼得到熔融状态的铜水,并使熔炼装置中铜水的温度保持在1100~1180℃;步骤二:投放用于铜熔炼的组件:将至少一个用于铜熔炼的组件投放到经过步骤一处理的熔炼炉的铜水中进行脱氢脱氧处理;步骤三:形成脱氢脱氧铜材:将经步骤二脱氢脱氧后的铜水引出形成铜材。采用本发明的无氧铜生产工艺能够生产出纯度高、含氢氧量低、含杂质量低,具有较好的机械性能和较高的导电性的无氧铜;具有投放方便,操作简单,工艺成本低;解决了传统的脱氢脱氧技术所面临的局限。

    一种薄壁铜基合金玻璃模具的制备方法

    公开(公告)号:CN115558874A

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN202211374293.0

    申请日:2022-11-04

    Abstract: 本发明属于铜基合金玻璃模具制备技术领域,涉及一种薄壁铜基合金玻璃模具的制备方法,包括步骤一热旋压;步骤二固溶热处理;步骤三冷旋压;步骤四时效热处理;步骤五机械加工二加工至成品。本发明采用热旋压和冷旋压工艺,旋后的金属纤维连续完整,晶粒被延伸变长变细,使得旋后金属的力学性能得到提高,并且旋压加工后金属表面不需或只需少量切削加工,甚至可直接旋压至成品,材料利用率高;根据铜基合金材料的性能处理发挥出铜基合金材料的最佳力学性、硬度、热疲劳性能等的性能,使得材料具有最佳的服役寿命;单次加工工艺可生产多件铜合金模具,工艺路线简单、加工效率高、材料利用率高。

    一种铜脱氢脱氧工艺
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113930626A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202111206722.9

    申请日:2021-10-15

    Abstract: 本发明涉及一种铜脱氢脱氧工艺,包括熔炼装置、用于铜熔炼的组件,熔炼包括如下步骤:步骤一:铜原料熔融保温处理将铜原料投入所述熔炼装置中进行熔炼得到熔融状态的铜水,并使熔炼装置中铜水的温度保持在1100~1180℃;步骤二:投放用于铜熔炼的组件:将至少一个用于铜熔炼的组件投放到经过步骤一处理的熔炼炉的铜水中进行脱氢脱氧处理;步骤三:形成脱氢脱氧铜材:将经步骤二脱氢脱氧后的铜水引出形成铜材。采用本发明的无氧铜生产工艺能够生产出纯度高、含氢氧量低、含杂质量低,具有较好的机械性能和较高的导电性的无氧铜;具有投放方便,操作简单,工艺成本低;解决了传统的脱氢脱氧技术所面临的局限。

    一种石墨烯剥离用电弧发生器及其制造方法

    公开(公告)号:CN113800507A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202111281341.7

    申请日:2021-11-01

    Abstract: 本发明涉及一种石墨烯剥离用电弧发生器,属于电弧发生器技术领域,其包括构成环形反应腔的芯轴、以及环绕在所述芯轴外部的外环套,所述外环套的一端与所述芯轴的一端密闭连接,所述外环套的另一端设有安装法兰,所述芯轴的另一端伸出所述安装法兰并设有导电法兰,所述芯轴、外环套及安装法兰之间形成环形冷却腔,所述法兰上设有冷却介质进口及出口;本发明还公开了一种石墨烯剥离用电弧发生器的制造方法,通过本发明的电弧发生器的制造方法,实现了电弧发生器根据不同使用部分对性能要求的不同采用不同的材质,提高电弧发生器的使用寿命,并降低了电弧发生器的制造成本。

    一种梯度结构铜基复合电接触材料的制备方法

    公开(公告)号:CN112992425A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202110202469.3

    申请日:2021-02-24

    Abstract: 本发明公开了一种梯度结构铜基复合电接触材料的制备方法,包括对基体的预处理、溅射镀铜处理和反应共溅射处理等步骤。本发明利用磁控溅射的办法在QTi3.5表面制备出Cu/TiN/Ni‑Cu‑Re的复合涂层,通过具有良好化学稳定性和导电性的TiN涂层和具有良好自润滑性的Ni‑Cu‑Re粒子相结合,获得具有厚度可控、导电性好的耐磨复合涂层,同时保留了QTi3.5基体的优良性能,并且通过制备纯铜过渡涂层有效减缓了不同涂层之间的界面应力,提高了涂层与基体以及不同涂层间的结合力,获得综合性能良好的电接触材料,从而提高其服役寿命。

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