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公开(公告)号：CN104339734B
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201410378382.1
申请日：2014-08-01
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供一种操作性优异、另一方面即使实施退火处理时也能够有效抑制卷曲的发生的带有保护薄膜的透明导电性薄膜。所述薄膜是从上方起层叠透明导电性膜、第1硬涂层、透明塑料薄膜基材、第2硬涂层和保护薄膜而成的带有保护薄膜的透明导电性薄膜，保护薄膜由粘结剂层和保护薄膜基材构成，并且能够剥离地层叠于第2硬涂层，且透明塑料薄膜基材的在150℃加热60分钟时的MD方向的热收缩率为0.6％以下的值，保护薄膜基材的在150℃加热60分钟时的MD方向的热收缩率为0.6％以下的值。
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公开(公告)号：CN104115036A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380008112.5
申请日：2013-02-05
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: G02B1/10 , B32B27/30 , C08F290/06
CPC classification number: G02B1/14 , C08F290/062 , G02B1/105
Abstract: 光学用膜，其为在基材的至少一个面上设置有包含固化性树脂组合物的固化物的树脂层的光学用膜，前述固化性树脂组合物含有：一分子中具有两个以上通式（1）所示基团且除了该基团以外的剩余结构中不含氧化亚烷基单元的聚合性化合物（A）、一分子中具有三个以上通式（2）所示基团的聚合性化合物（B）、以及聚合引发剂（C），并且（A）成分与（B）成分的质量比〔（A）/（B）〕为15/85~85/15，该光学用膜与印刷材料的密合性和与粘合剂的粘接性优异，同时表面硬度高，因此具有良好的抗损伤性能，具有即使在高温高湿的环境下长时间放置也可维持这些特性的优异耐久性。
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公开(公告)号：CN107249879A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680009539.0
申请日：2016-02-16
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及脱模膜(10A)，其具备基材(11)、防静电层(12)和脱模层(13)，所述防静电层(12)设置于基材(11)的一个面(11A)上，所述脱模层(13)设置于防静电层(12)上或基材(11)的另一面侧，其中，基材(11)的一个面(11A)的算数平均粗糙度Ra为15nm以下，最大突起高度Rp为150nm以下，而且防静电层(12)是将包含聚噻吩类导电性高分子(A)的水性热固性树脂组合物固化而形成的，其厚度为12～250nm。
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公开(公告)号：CN107107577A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680005001.2
申请日：2016-06-15
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)，其具备基材(11)、及设置在基材(11)的单侧的剥离剂层(12)，其中，剥离剂层(12)由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有总酸值为0.030～0.154mg KOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂、及聚有机硅氧烷。所述陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)显示良好的剥离性，并且可抑制卷曲的产生。
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公开(公告)号：CN107107577B
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201680005001.2
申请日：2016-06-15
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)，其具备基材(11)、及设置在基材(11)的单侧的剥离剂层(12)，其中，剥离剂层(12)由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有总酸值为0.030～0.154mg KOH/g、且重均分子量为1000～10000的三聚氰胺树脂、及聚有机硅氧烷。所述陶瓷生片制造工序用剥离膜(1A)显示良好的剥离性，并且可抑制卷曲的产生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108349107A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063814.7
申请日：2016-11-29
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜1A，其为具备基材11、及设置在基材11的一侧的剥离剂层12的陶瓷生片制造工序用剥离膜1A，剥离剂层12由含有三聚氰胺树脂及聚有机硅氧烷的剥离剂组合物固化而成，通过纳米压痕试验，从剥离剂层12的与基材11相反侧的面测定的覆膜弹性模量为3.5～7.0GPa。根据该陶瓷生片制造工序用剥离膜1A，能够抑制聚有机硅氧烷从剥离剂层迁移至陶瓷生片。
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公开(公告)号：CN110430981A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880016629.1
申请日：2018-02-28
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明的生片形成用剥离膜是用于形成生片的生片形成用剥离膜(1)，其中，该剥离膜(1)具备基材(11)和设置于上述基材(11)的一面的剥离剂层(12)，上述剥离剂层由剥离剂形成用材料的固化物形成，该剥离剂形成用材料含有(A)能量线固化性化合物、(B)疏水化硅溶胶、及(C)剥离赋予成分。
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公开(公告)号：CN109863023A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201780064584.0
申请日：2017-10-17
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供一种剥离片，其具备基材与设置于所述基材的至少一面侧的剥离剂层，所述剥离剂层由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有：不含聚硅氧烷骨架的阳离子聚合性化合物、剥离成分及阳离子聚合引发剂，所述剥离剂组合物中，所述阳离子聚合性化合物的掺合量比所述剥离成分及所述阳离子聚合引发剂各自的掺合量多。该剥离片为具有良好的剥离性的新型的剥离片。
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公开(公告)号：CN104650635B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201410643417.X
申请日：2014-11-14
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板。本发明提供一种防止硬质涂膜彼此的粘连且透明性优异的硬质涂膜和具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。硬质涂膜，其在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，该硬质涂膜的规定的雾度值为1.0%以下；硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成；（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于前述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值；（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
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公开(公告)号：CN104185550B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201280071753.0
申请日：2012-12-20
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: B32B27/283 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2483/04 , C08K5/54 , C09D183/04 , C09J7/401 , C09J2467/006 , C09J2483/005 , C08L83/00 , C08L33/04
Abstract: 本发明涉及一种剥离片(1)，其具备基材(11)及至少形成于基材(11)的一个面的剥离剂层(12)，其中，剥离剂层(12)使用如下所述的剥离剂组合物所形成，该剥离剂组合物含有在1分子中具有至少2个烯基的第一聚二甲基硅氧烷，及在1分子中具有至少2个氢硅烷基的第二聚二甲基硅氧烷，在总计30g的第一聚二甲基硅氧烷与第二聚二甲基硅氧烷中，含有烯基10.00～16.00mmol，含有氢硅烷基40.00～145.00mmol，且氢硅烷基(b)相对于烯基(a)的摩尔比(b/a)为2.0～15.0。根据该剥离片(1)，剥离片的剥离剂层即使在长时间暴露于大气的情况下也可抑制剥离力的增大。
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