铁氧体基板及制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117276835A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311227921.7

    申请日:2023-09-22

    Abstract: 铁氧体基板及制备方法,涉及材料技术,本发明的铁氧体基板其平面形状具有内切圆,铁氧体基板纵横比的数值为29%~59%,所述纵横比按照下式确定:纵横比=h/d;h为基板厚度,d为基板平面形状的内切圆的直径。采用本发明技术的铁氧体基板,具有高剩磁比、较高磁晶各向异性场、高矫顽力、低共振线宽的性能。

Patent Agency Ranking