公开(公告)号：CN1689377A

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：CN03823863.2

申请日：2003-09-18

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·J·M·内里斯森

IPC: H05B33/10 ,  H01L51/40

CPC classification number: H01L51/0004 ,  H01L27/3211 ,  H01L27/3283 ,  H01L51/0012 ,  H01L2251/558

Abstract: 本发明涉及用于制造发光显示器的方法，该发光显示器包括在衬底上的多个发光元件，其中在该衬底上或在该衬底之上设置至少一个定界装置，用于至少局部限制淀积流体发光物质的位置，以便形成该发光元件。至少一个定界装置的至少一部分排斥该流体发光物质。该排斥部分可以包括疏水性流动阻挡层。特别在利用喷墨印刷来淀积该流体发光物质且该流体发光物质包含用于产生不同颜色光的不同材料的情况下，该方法就具有改善发光元件分辨率的优点。

公开(公告)号：CN1327298C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN03823110.7

申请日：2003-09-26

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·J·M·内里斯森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035 ,  Y10T428/24802

Abstract: 在用于对衬底的端侧面或内侧面进行布线的光刻接近式方法中，利用掩模(70)来对限定了布线图案的条(76)进行所需的曝光，该掩模(70)包括衍射结构(74)以便将曝光射线(b)反射至侧面。使用垂直入射于掩模上的曝光光束以便提高贴近间隙宽度变动的公差。这种方法容许制造准确、精细的布线。

公开(公告)号：CN1689379A

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：CN03823857.8

申请日：2003-09-12

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·J·M·内里斯森

IPC: H05B33/14 ,  H01L51/20

CPC classification number: H01L51/5253 ,  H01L27/3283 ,  H01L27/3288 ,  H01L51/5206 ,  H01L51/5221

Abstract: 本发明涉及一种在基板上制造发光显示器的方法，包括下述步骤：在所述基板上或上方沉积第一电极层，在所述第一电极层的至少一部分上或上方形成多个发光层片段，在所述发光层片段的至少其中一个上或上方施加至少一个保护层，以及沉积第二电极层。通过在发光层片段上方提供保护层，在随后层的沉积和/或构图的过程中获得了关于处理条件的更大自由度，因为易受影响的发光层片段由所述保护层所保护。

公开(公告)号：CN1685286A

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN03823110.7

申请日：2003-09-26

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·J·M·内里斯森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035 ,  Y10T428/24802

Abstract: 在用于对衬底的端侧面或内侧面进行布线的光刻接近式方法中，利用掩模(70)来对限定了布线图案的条(76)进行所需的曝光，该掩模(70)包括衍射结构(74)以便将曝光射线(b)反射至侧面。使用垂直入射于掩模上的曝光光束以便提高贴近间隙宽度变动的公差。这种方法容许制造准确、精细的布线。