一种镓酸盐激光晶体制备装置

    公开(公告)号:CN118516744B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202410669726.8

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本发明涉及激光晶体制备技术领域,公开了一种镓酸盐激光晶体制备装置,包括:坩埚、提拉组件和第一回流组件,第一回流组件包括收集罩、高温刮板组件和回流管,收集罩连接于坩埚顶端,用于收集冷凝后的挥发物质,高温刮板组件与提拉组件连接,用于将收集罩内壁的挥发物质熔化后刮下,回流管设置于坩埚一侧,用于将刮下的熔化挥发物引导至坩埚底部的激光晶体原料内。本发明采用高温刮板组件对收集罩内附着的挥发物刮下,使挥发物与高温刮板组件接触时呈熔化态,降低挥发物的清理难度,同时设置回流管对熔化的挥发物导流,使其从边缘回流至坩埚的激光晶体原料内,提高制备获得的激光晶体质量。

    一种镓酸盐激光晶体制备装置

    公开(公告)号:CN118516744A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202410669726.8

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本发明涉及激光晶体制备技术领域,公开了一种镓酸盐激光晶体制备装置,包括:坩埚、提拉组件和第一回流组件,第一回流组件包括收集罩、高温刮板组件和回流管,收集罩连接于坩埚顶端,用于收集冷凝后的挥发物质,高温刮板组件与提拉组件连接,用于将收集罩内壁的挥发物质熔化后刮下,回流管设置于坩埚一侧,用于将刮下的熔化挥发物引导至坩埚底部的激光晶体原料内。本发明采用高温刮板组件对收集罩内附着的挥发物刮下,使挥发物与高温刮板组件接触时呈熔化态,降低挥发物的清理难度,同时设置回流管对熔化的挥发物导流,使其从边缘回流至坩埚的激光晶体原料内,提高制备获得的激光晶体质量。

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