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公开(公告)号:CN117672905A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202211056958.3
申请日:2022-08-31
Applicant: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 基板热处理装置包括固定框架;移动底座,用于装载热处理模块;有限板式运动导轨,移动底座通过有限板式运动导轨可移动地安装在固定框架内,第一定位销组件,用于在移动底座运动方向上对移动底座进行定位固定;至少两组滑动组件,分布在移动底座垂直于运动方向的水平方向的两侧,每组滑动组件包括相互配合的导向轮和滑轨,至少一组滑动组件的导向轮和滑轨采用定位轮和定位滑轨,用于在与移动底座运动方向垂直的水平方向上对移动底座进行定位。本发明还提出了一种半导体设备,包括至少一个备用基板热处理装置。
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公开(公告)号:CN119230464A
公开(公告)日:2024-12-31
申请号:CN202310787637.9
申请日:2023-06-29
Applicant: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种载台,零件结构简单,采用通用的机械制造工艺,可大幅度地减少载台的成本;载台重量轻巧,可有效地减少驱动的负载与能耗;替换了传统卡爪的固定形式,扩大载台对清洗液的适用范围,减少客户端保养的频率;能够适用于翘曲度较大的晶圆产品,有效避免真空泄露及碎片的现象。
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