公开(公告)号：CN108886004B

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201780015110.7

申请日：2017-03-28

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： J·纳贝特 ,  O·N·德米雷尔 ,  R·卡鲁-尚穆加姆 ,  G(俊)·侯 ,  C·斯帕卡 ,  H·浩 ,  S·舍温 ,  F·阿尼斯 ,  M·D·史密斯 ,  W(比尔)·皮尔逊

IPC: H01L21/66

Abstract: 一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。

公开(公告)号：CN108886004A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780015110.7

申请日：2017-03-28

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： J·纳贝特 ,  O·N·德米雷尔 ,  R·卡鲁-尚穆加姆 ,  G(俊)·侯 ,  C·斯帕卡 ,  H·浩 ,  S·舍温 ,  F·阿尼斯 ,  M·D·史密斯 ,  W(比尔)·皮尔逊

IPC: H01L21/66

Abstract: 一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。