公开(公告)号：CN100470825C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200510006458.9

申请日：2005-02-01

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 林建二 ,  柄泽康史

IPC: H01L27/32 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/5237 ,  H01L27/1214 ,  H01L51/5253

Abstract: 本发明提供一种电光学装置的制造方法、电光学装置以及电子机器。电光学装置(1)，在基体(200)上具有第1电极(23)、第2电极(50)、第1电极(23)与第2电极(50)之间夹持的电光学层(110)。在该电光学装置(1)的制造方法中，包含将覆盖第2电极(50)的发光材料保护层(65)用真空蒸镀法形成的工序、和将覆盖发光材料保护层(65)的电极保护层(55)用等离子体成膜法形成的工序。这样，能够防止制造过程中发生的发光层的恶化。

公开(公告)号：CN1652645A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN200510006458.9

申请日：2005-02-01

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 林建二 ,  柄泽康史

IPC: H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22 ,  H05B33/26 ,  G09F9/30

CPC classification number: H01L51/5237 ,  H01L27/1214 ,  H01L51/5253

Abstract: 本发明提供一种电光学装置的制造方法、电光学装置以及电子机器。电光学装置(1)，在基体(200)上具有第1电极(23)、第2电极(50)、第1电极(23)与第2电极(50)之间夹持的电光学层(110)。在该电光学装置(1)的制造方法中，包含将覆盖第2电极(50)的发光材料保护层(65)用真空蒸镀法形成的工序、和将覆盖发光材料保护层(65)的电极保护层(55)用等离子体成膜法形成的工序。这样，能够防止制造过程中发生的发光层的恶化。