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公开(公告)号：CN1937892A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200610143255.9
申请日：2003-11-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
CPC classification number: H01L2224/11
Abstract: 一种多层电路板和采用微滴喷射法通过简单制作过程制造所述电路板的制造方法，可以容易地使内层绝缘膜平坦。所述多层电路板包括至少两个布线层；设在每相邻两布线层之间的内层绝缘膜，用以在布线层之间提供导电性的导电柱。所述制造方法包括通过按照形成内层绝缘膜区域的凹凸形状改变内层绝缘膜的厚度形成所述内层绝缘膜的步骤，以使该内层绝缘膜的上表面平坦。根据电路图案的设计数据计算所述凹凸形状，用以形成各布线层和导电柱，或者在内层绝缘膜形成之前，可以测量所述凹凸形状。
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公开(公告)号：CN1212230C
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03105469.2
申请日：2003-02-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
CPC classification number: H01L21/6715 , Y10T428/10 , Y10T428/1023
Abstract: 本发明提出一种薄膜形成装置和薄膜形成方法，可通过在基板(SUB)上涂敷涂敷液(L)而形成薄膜，该装置包含：具有向所述基板上喷出所述涂敷液的液滴喷出头的喷出机构(2)；使该液滴喷出头和所述基板的位置相对移动的移动机构(3)；控制喷出机构和移动结构的至少一方的控制部(C)；该控制部通过控制喷出机构的喷出动作和移动机构的移动动作的至少一方，改变涂敷液的涂敷条件，来进行薄膜的膜厚控制。在薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置的制造装置和制造方法、薄膜构造体的制造装置和制造方法以及在液晶装置、薄膜构造体、电子机器的制造过程中，即使不使用旋转部件，也能容易地控制膜厚，并且可实现低成本化和小型化。
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公开(公告)号：CN1198169C
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN02801771.4
申请日：2002-05-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
IPC: G02F1/1335 , G02B5/20 , B05C9/00
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133504 , G02F1/133514 , G02F1/133553 , H01L27/3244
Abstract: 本发明提出一种在基板上备置有由反射层和色层构成的多个像素的显示装置用彩色薄膜的制造方法，该制造方法备有：形成区分配置像素的各像素区域的隔墙的形成工序，通过把第1液体材料采用液滴排出法排出在各像素区域内而形成反射层的工序，在各像素区域内形成所述色层的工序。据此，可以省去光刻工序等的繁杂工序，而能短时，低能耗，低成本地进行彩色薄膜的制造。
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公开(公告)号：CN1503338A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN200310118114.8
申请日：2003-11-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
Abstract: 一种多层电路板和采用微滴喷射法通过简单制作过程制造所述电路板的制造方法，可以容易地使内层绝缘膜平坦。所述多层电路板包括至少两个布线层；设在每相邻两布线层之间的内层绝缘膜，用以在布线层之间提供导电性的导电柱。所述制造方法包括通过按照形成内层绝缘膜区域的凹凸形状改变内层绝缘膜的厚度形成所述内层绝缘膜的步骤，以使该内层绝缘膜的上表面平坦。根据电路图案的设计数据计算所述凹凸形状，用以形成各布线层和导电柱，或者在内层绝缘膜形成之前，可以测量所述凹凸形状。
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公开(公告)号：CN1463370A
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：CN02801771.4
申请日：2002-05-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
IPC: G02B5/20 , H05B33/14 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133504 , G02F1/133514 , G02F1/133553 , H01L27/3244
Abstract: 本发明提出一种在基板上备置有由反射层和色层构成的多个像素的显示装置用彩色薄膜的制造方法，该制造方法备有：形成区分配置像素的各像素区域的隔墙的形成工序，通过把第1液体材料采用液滴排出法排出在各像素区域内而形成反射层的工序，在各像素区域内形成所述色层的工序。据此，可以省去光刻工序等的繁杂工序，而能短时，低能耗，低成本地进行彩色薄膜的制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111497440A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010073218.5
申请日：2020-01-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01 , B41J29/393
Abstract: 本发明提供一种决定介质的厚度是未知的记录介质的工作间隙的工作间隙的决定方法以及记录装置。该工作间隙的决定方法包括：第一记录工序，从记录头向介质的厚度已知的第一记录介质喷出油墨从而记录测试图案；第一拍摄工序，在记录头和第一记录介质之间的距离为第一距离以及第二距离的各个状态下，对被记录于第一记录介质上的测试图案进行拍摄；函数计算工序，对根据所拍摄到的测试图案的像素数而求出所述距离的函数进行计算；第二记录工序，在第二记录介质上记录测试图案；第二拍摄工序，对被记录在第二记录介质上的测试图案进行拍摄；工作间隙决定工序，根据所拍摄到的测试图案的像素数和函数来决定记录头与第二记录介质之间的距离。
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公开(公告)号：CN102529346A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110309669.5
申请日：2011-10-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
IPC: B41J2/01
CPC classification number: B41J2/2114 , B41J2/2103
Abstract: 一种液体喷出装置及液体喷出方法，该液体喷出装置的特征在于，多个第一喷嘴列所属的第一喷嘴列群与多个第二喷嘴列所属的第二喷嘴列群的双方均满足以下的(1)至(3)中的至少一个条件。(1)包括黑色系喷嘴列。(2)包括第一色喷嘴列、第二色喷嘴列和第三色喷嘴列的全部。(3)包括二次色由第一色、第二色、第三色中的两色的组合构成的、二次色喷嘴列，且包括向介质喷出第一色、第二色、第三色中的剩余的一色的液体的喷嘴列、以及二次色包括该剩余的一色的所述二次色喷嘴列中的至少某一种喷嘴列。
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公开(公告)号：CN1753600A
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN200510099521.8
申请日：2005-09-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H05K3/125 , H01L51/0022 , H01L2924/0002 , H05K3/1208 , H05K3/386 , H05K3/4664 , H05K2203/013 , H05K2203/1173 , H01L2924/00
Abstract: 本发明是用喷墨法形成稳定的多层结构的发明。该多层结构形成方法包括：由第1喷嘴向物体表面喷出含有第1感光性树脂的第1绝缘材料的液滴，形成覆盖上述物体表面的第1绝缘材料层的步骤(A)；使上述第1绝缘材料层固化而得到第1绝缘层的步骤(B)；由第2喷嘴向上述第1绝缘层喷出导电性材料的液滴，在上述第1绝缘层上形成导电性材料层的图案的步骤(C)；和使上述导电性材料层的图案活性化而在上述第1绝缘层上形成配线图案的步骤(D)。
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公开(公告)号：CN1439516A
公开(公告)日：2003-09-03
申请号：CN03105469.2
申请日：2003-02-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 桜田和昭
CPC classification number: H01L21/6715 , Y10T428/10 , Y10T428/1023
Abstract: 本发明提出一种薄膜形成装置和薄膜形成方法，可通过在基板(SUB)上涂敷涂敷液(L)而形成薄膜，该装置包含：具有向所述基板上喷出所述涂敷液的液滴喷出头的喷出机构(2)；使该液滴喷出头和所述基板的位置相对移动的移动机构(3)；控制喷出机构和移动结构的至少一方的控制部(C)；该控制部通过控制喷出机构的喷出动作和移动机构的移动动作的至少一方，改变涂敷液的涂敷条件，来进行薄膜的膜厚控制。在薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置的制造装置和制造方法、薄膜构造体的制造装置和制造方法以及在液晶装置、薄膜构造体、电子机器的制造过程中，即使不使用旋转部件，也能容易地控制膜厚，并且可实现低成本化和小型化。
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公开(公告)号：CN111497440B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202010073218.5
申请日：2020-01-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01 , B41J29/393
Abstract: 本发明提供一种决定介质的厚度是未知的记录介质的工作间隙的工作间隙的决定方法以及记录装置。该工作间隙的决定方法包括：第一记录工序，从记录头向介质的厚度已知的第一记录介质喷出油墨从而记录测试图案；第一拍摄工序，在记录头和第一记录介质之间的距离为第一距离以及第二距离的各个状态下，对被记录于第一记录介质上的测试图案进行拍摄；函数计算工序，对根据所拍摄到的测试图案的像素数而求出所述距离的函数进行计算；第二记录工序，在第二记录介质上记录测试图案；第二拍摄工序，对被记录在第二记录介质上的测试图案进行拍摄；工作间隙决定工序，根据所拍摄到的测试图案的像素数和函数来决定记录头与第二记录介质之间的距离。
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