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公开(公告)号：CN100409335C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200380100324.2
申请日：2003-12-24
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261 , Y10S425/81
Abstract: 制造生产光盘的母盘的方法包括：曝光过程，其中以记录激光辐射形成在衬底100上的无机抗蚀剂层101，通过对应于光盘上信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制该记录激光；以及之后的显影过程，其中在无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于无机抗蚀剂层的信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形；在曝光过程中，在抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光后，使评估激光辐射曝光部分，从反射光中评估抗蚀剂层的记录信号特征以基于评估结果确定记录激光的最佳焦点位置；因此从在抗蚀剂上的曝光部分的记录特征中预测并评估光盘的记录信号的特征(跳动值)以基于评估结果调节曝光聚焦位置，由此可制造具有适当凹形和凸形图形的母盘以及具有良好特征的光盘。
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公开(公告)号：CN1692417A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100300.7
申请日：2003-11-20
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G11B7/261 , G11B7/1267
Abstract: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括：曝光步骤，用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101)，以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案，和显影步骤，显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的曝光图案。在曝光步骤中，将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域，利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性，并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。
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公开(公告)号：CN100440349C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200380100300.7
申请日：2003-11-20
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G11B7/261 , G11B7/1267
Abstract: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括：曝光步骤，用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101)，以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案，和显影步骤，显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的凹凸图案。在曝光步骤中，将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域，利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性，并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。
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公开(公告)号：CN1692418A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100324.2
申请日：2003-12-24
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261 , Y10S425/81
Abstract: 制造生产光盘的母盘的方法包括：曝光过程，其中以记录激光辐射形成在衬底100上的无机抗蚀剂层101，通过对应于光盘上信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制该记录激光；以及之后的显影过程，其中在无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于无机抗蚀剂层的信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形；在曝光过程中，在抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光后，使评估激光辐射曝光部分，从反射光中评估抗蚀剂层的记录信号特征以基于评估结果确定记录激光的最佳焦点位置；因此从在抗蚀剂上的曝光部分的记录特征中预测并评估光盘的记录信号的特征(跳动值)以基于评估结果调节曝光聚焦位置，由此可制造具有适当凹形和凸形图形的母盘以及具有良好特征的光盘。
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