图案检查设备,和使用其的曝光设备控制系统

    公开(公告)号:CN1349252A

    公开(公告)日:2002-05-15

    申请号:CN01138570.7

    申请日:2001-08-23

    CPC classification number: G03F7/70483 G01N21/9501 G01N21/956

    Abstract: 一个图案检查设备7被用于光刻的半导体生产线1中。图案检查设备7测量通过曝光设备4中的曝光过程形成在半导体晶片100上的绝缘图案和L/S图案二者的线宽,并且基于测量的结果产生要用来校正曝光设备4中的光量的光量校正信息,要用来校正曝光聚焦位置的聚焦校正信息等等。于是,相应于通过图案检查设备7产生的这些校正信息,曝光设备4中的曝光被校正。于是,通过曝光设备4形成的抗蚀图案能够被快速地检查从而允许基于检查结果实时地校正曝光设备4的参数,并且高准确地控制曝光设备4的参数。

Patent Agency Ranking