用于微粒的光学检测方法和光学检测装置

    公开(公告)号:CN101419171B

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN200810171945.4

    申请日:2008-10-24

    Abstract: 本发明公开了一种用于微粒的光学检测方法和光学检测装置,所述装置包括:光照射部,被配置为将激光束照射到在流道中被连续输送的微粒中的一个上;以及光检测部,被配置为检测激光束照射的任何微粒所产生的荧光和/或散射光;所述方法包括以下步骤:将激光束照射到在流道中被连续输送的微粒中的一个上;并且检测微粒产生的荧光和/或散射光;其中,激光束被形成为这样的脉冲激光束,所述脉冲激光束的脉冲强度被调节,从而使得一个激光束或者具有不同波长的两个以上的激光束用变化的强度来多次照射一个微粒。

    原版盘制作设备、原版盘制作方法

    公开(公告)号:CN100466064C

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200610005058.0

    申请日:2006-01-17

    Inventor: 今西慎悟

    CPC classification number: G11B7/261

    Abstract: 一种原版盘制作设备,用于通过使用激光照射的热记录方法、在光学记录介质原版盘上形成基于记录数据的凹坑串。该原版盘制作设备包括:激光源装置,用于在基于第一记录数据的定时发射激光,以形成凹坑;光强控制装置,用于基于第二记录数据控制从激光源装置输出的激光的光强;以及光学系统装置,用于通过光强控制装置将激光引导到光记录介质原版盘上。

    激光绘图方法和设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101266926A

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN200810000234.0

    申请日:2008-01-24

    Inventor: 今西慎悟

    Abstract: 本发明公开了激光绘图方法和设备。本发明公开了一种激光绘图的方法,包括以下步骤:使来自光源的激光入射在声光衍射元件上,以及通过改变将被输入到元件中以使光发生衍射的高频信号的频率使入射到元件的光发生偏转,从而改变衍射光的衍射角,并使从元件出射的衍射光作为光点聚集在将被处理的对象上,从而使用光点来扫描对象。衍射光强度控制表被预先准备,该衍射光强度控制表用于控制衍射光的光强度以使之独立于衍射光的衍射角而保持恒定,并且在偏转步骤中,基于衍射光强度控制表来控制衍射光的光强度。

    激光绘图方法和设备
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101266926B

    公开(公告)日:2010-04-21

    申请号:CN200810000234.0

    申请日:2008-01-24

    Inventor: 今西慎悟

    Abstract: 本发明公开了激光绘图方法和设备。本发明公开了一种激光绘图的方法,包括以下步骤:使来自光源的激光入射在声光衍射元件上,以及通过改变将被输入到元件中以使光发生衍射的高频信号的频率使入射到元件的光发生偏转,从而改变衍射光的衍射角,并使从元件出射的衍射光作为光点聚集在将被处理的对象上,从而使用光点来扫描对象。衍射光强度控制表被预先准备,该衍射光强度控制表用于控制衍射光的光强度以使之独立于衍射光的衍射角而保持恒定,并且在偏转步骤中,基于衍射光强度控制表来控制衍射光的光强度。

    原版盘制作设备、原版盘制作方法和光记录介质

    公开(公告)号:CN1808584A

    公开(公告)日:2006-07-26

    申请号:CN200610005058.0

    申请日:2006-01-17

    Inventor: 今西慎悟

    CPC classification number: G11B7/261

    Abstract: 一种原版盘制作设备,用于通过使用激光照射的热记录方法、在光学记录介质原版盘上形成基于记录数据的凹坑串。该原版盘制作设备包括:激光源装置,用于在基于第一记录数据的定时发射激光,以形成凹坑;光强控制装置,用于基于第二记录数据控制从激光源装置输出的激光的光强;以及光学系统装置,用于通过光强控制装置将激光引导到光记录介质原版盘上。

    用于微粒的光学检测方法和光学检测装置

    公开(公告)号:CN101419171A

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200810171945.4

    申请日:2008-10-24

    Abstract: 本发明公开了一种用于微粒的光学检测方法和光学检测装置,所述装置包括:光照射部,被配置为将激光束照射到在流道中被连续输送的微粒中的一个上;以及光检测部,被配置为检测激光束照射的任何微粒所产生的荧光和/或散射光;所述方法包括以下步骤:将激光束照射到在流道中被连续输送的微粒中的一个上;并且检测微粒产生的荧光和/或散射光;其中,激光束被形成为这样的脉冲激光束,所述脉冲激光束的脉冲强度被调节,从而使得一个激光束或者具有不同波长的两个以上的激光束用变化的强度来多次照射一个微粒。

    曝光装置和方法、光盘驱动器及记录和/或再现方法

    公开(公告)号:CN1280360A

    公开(公告)日:2001-01-17

    申请号:CN00120347.9

    申请日:2000-07-07

    Inventor: 今西慎悟

    Abstract: 为了高精度地控制在近场区域中的间隙长度,曝光装置包括发射曝光激光的曝光光源(11);发射其波长与曝光激光不同的间隙长度控制激光的间隙长度控制光源(16);将间隙长度控制间隙投射到聚光镜(14)和固态浸没透镜(SIL)(15)的聚光镜(17a)、准直透镜(17b)和分色镜(12);和检测来自SIL(15)的出射表面(15b)的间隙长度控制激光的返回部分强度的光检测器(22)。于是,在曝光装置中,根据来自光检测器(22)的检测回光强度控制在SILL(15)和对象(100)之间的间隙。

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